[发明专利]金属线栅偏光片的制作方法

说明书

本发明提供一种金属线栅偏光片的制作方法，包括：提供一玻璃基板；在玻璃基板上沉积第一非金属薄膜；在第一非金属薄膜上沉积光阻材料层；对光阻材料层进行纳米压印得到光阻图案层，光阻图案层包括第一图案部分以及设于第一图案部分之间的第二图案部分；去除第二图案部分以露出第一非金属薄膜；以第一图案部分为掩膜湿法刻蚀第一非金属薄膜以在玻璃基板上形成数条间隔设置的非金属线；在第一图案部分与玻璃基板上沉积金属薄膜；剥离位于非金属线上的第一图案部分与金属薄膜以得到位于数条非金属线之间的金属线。本发明解决了金属薄膜与空气接触的时间过长，金属薄膜刻蚀后形成的金属线发生腐蚀的概率较高的技术问题。

技术领域

本发明涉及偏光片技术领域，特别涉及一种金属线栅偏光片的制作方法。

背景技术

在显示技术的制造领域中，目前对金属线栅偏光片的制备方法主要包括如下主要步骤：在玻璃基板上沉积金属薄膜，在金属薄膜上沉积光阻层，以光阻层为掩膜干法刻蚀金属薄膜得到金属线，金属线与玻璃基板形成金属线栅偏光片。但是在此方法中，金属薄膜过早地沉积，沉积后的金属薄膜过早地暴露在空气中，金属薄膜与空气接触的时间过长，容易发生腐蚀，进而金属薄膜刻蚀后形成的金属线发生腐蚀的概率较高。

发明内容

本发明的目的在于提供一种金属线栅偏光片的制作方法，以解决金属薄膜与空气接触的时间过长，金属薄膜刻蚀后形成的金属线发生腐蚀的概率较高的技术问题。

本发明提供一种金属线栅偏光片的制作方法，包括：

提供一玻璃基板；

在所述玻璃基板上沉积第一非金属薄膜；

在所述第一非金属薄膜上沉积光阻材料层；

对所述光阻材料层进行纳米压印得到光阻图案层，所述光阻图案层包括第一图案部分以及设于所述第一图案部分之间的第二图案部分，所述第一图案部分具有第一厚度，所述第二图案部分具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度；

去除所述第二图案部分以露出所述第一非金属薄膜，相邻两个所述第一图案部分之间形成第一间隙；

以所述第一图案部分为掩膜湿法刻蚀所述第一非金属薄膜以在所述玻璃基板上形成数条间隔设置的非金属线，数条所述非金属线之间形成第二间隙，所述第一间隙与所述第二间隙的宽度相等；

在所述第一图案部分与所述玻璃基板上沉积金属薄膜；

剥离位于所述非金属线上的所述第一图案部分与所述金属薄膜以得到位于数条所述非金属线之间的金属线。

其中，所述剥离位于所述非金属线上的所述第一图案部分与所述金属薄膜以得到位于数条所述非金属线之间的金属线的步骤之后还包括在所述金属线与所述非金属线上沉积第二非金属薄膜。

其中，沉积所述第一非金属薄膜与所述第二非金属薄膜的方法为化学气相沉积。

其中，沉积所述金属薄膜的方法为物理气相沉积。

其中，所述第一非金属薄膜与所述第二非金属膜均为透明薄膜，所述第一非金属薄膜与所述第二非金属膜的材料包括一氧化硅、二氧化硅或氮化硅中的一种或多种。

其中，所述第一非金属薄膜的厚度为100nm-500nm。

其中，所述第一图案部分的厚度为100-200nm；所述第二图案部分的厚度为10-50nm。

其中，所述第一图案部分与所述第一间隙的宽度相等。

其中，所述金属薄膜的材料包括铝、银、铜或铬的一种或多种。

其中，所述物理气相沉积的方法包括热蒸镀。