[发明专利]可喷绘反光膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810547321.1 申请日: 2018-05-31
公开(公告)号: CN108535800A 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 朱昊枢;贾俊伟;任家安;左志成;蔡文静;周聚鹤;朱志坚;陈林森 申请(专利权)人: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学
主分类号: G02B5/128 分类号: G02B5/128
代理公司: 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 代理人: 叶栋
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 载体层 喷绘 光敏胶层 反光膜 反射层 微珠层 制备 反光层 离型层 粘着层 微珠 制备方法工艺 反光膜层 依次设置 沉积法 光固化 光敏胶 断裂 复合 侧面
【权利要求书】:

1.一种可喷绘反光膜,包括载体层和反光层,其特征在于,所述反光层自上而下包括依次设置的光敏胶层、微珠层、反射层、粘着层和离型层,所述载体层设置在所述光敏胶层上,所述微珠层包括若干微珠,所述反射层设置在所述微珠层上。

2.如权利要求1所述的可喷绘反光膜,其特征在于,所述反射层与所述微珠的部分表面相贴合,所述粘着层设置在所述反射层上。

3.如权利要求2所述的可喷绘反光膜,其特征在于,所述微珠至少部分嵌入至所述光敏胶层和粘着层内。

4.如权利要求1所述的可喷绘反光膜,其特征在于,所述载体层的厚度为30-400μm。

5.如权利要求1所述的可喷绘反光膜,其特征在于,所述微珠的粒径为20-60μm。

6.如权利要求1所述的可喷绘反光膜,其特征在于,所述反射层为具有镜面反射效果的铝层,所述铝层通过沉积法设置在所述微珠层上。

7.如权利要求1或6所述的可喷绘反光膜,其特征在于,所述反射层的厚度为400-800埃。

8.如权利要求1所述的可喷绘反光膜,其特征在于,所述粘着层为压敏胶层。

9.一种制备如权利要求1至8中任一项所述的可喷绘反光膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、将光敏胶与微珠混合,充分搅拌后将其涂布在所述载体层上,随后进行光固化,得到涂布在所述载体层上的光敏胶层和微珠层,在所述光敏胶与微珠混合的过程中,所述光敏胶的上胶量为12-40g/m2

S2、在所述光敏胶层远离所述载体层一侧的表面上通过沉积法形成所述反射层,再在所述反射层上涂布所述粘着层,并与所述离型层复合,得到所述可喷绘反光膜。

10.如权利要求10所述的制备方法,其特征在于,步骤S2中,当所述粘着层为压敏胶层时,在所述反射层上涂布所述粘着层的过程中,压敏胶的上胶量为2-25g/m2

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