[发明专利]掩膜板的制作方法及掩膜板

说明书

本公开提供了一种掩膜板的制作方法及掩膜板，以提高掩膜板的受力均匀性和像素位置精度。其中所述掩膜板的制作方法包括：提供开放式掩膜板，所述开放式掩膜板上具有至少一个开口区；在所述开口区内形成光刻胶层，所述光刻胶层具有掩膜板的网格结构的图案；以所述光刻胶层为掩膜，在所述开口区内沉积掩膜板的网格结构的材料，形成掩膜板的网格结构，所述网格结构的边缘与其所在的开口区的侧壁连接成为一体结构。上述制作方法应用于高PPI、异形或不规则形状的掩膜板的制作。

技术领域

本公开涉及OLED(英文全称为：Organic Light-Emitting Diode，中文名称为：有机发光二极管)显示面板制造技术领域，尤其涉及一种掩膜板的制作方法及掩膜板。

背景技术

OLED显示面板由于具有自发光、高亮度、高对比度、低工作电压、可制作柔性显示等特点，被称为最有应用前景的显示器件。OLED显示面板作为自发光的显示器件，为了提高显示的色域、对比度及亮度效率，往往采用独立的子像素发光层实现彩色显示，如红(R)色子像素采用能够发红光的发光层，绿(G)色子像素采用能够发绿光的发光层，蓝(B)色子像素采用能够发蓝光的发光层。

蒸镀独立的子像素发光层时需要使用FMM(Fine Metal Mask，精密金属掩膜板)，FMM的质量，如FMM的受力均匀性、网格结构的位置精度等，直接决定了发光层的蒸镀质量，进而对显示效果产生影响。因此提高FMM的质量对于提升显示面板的品质至关重要。

发明内容

本公开实施例提供一种掩膜板的制作方法及掩膜板，以提高掩膜板的质量。

为达到上述目的，本公开实施例采用如下技术方案：

第一方面，本公开实施例提供了一种掩膜板的制作方法，所述制作方法包括：提供开放式掩膜板，所述开放式掩膜板上具有至少一个开口区；在所述开口区内形成光刻胶层，所述光刻胶层具有掩膜板的网格结构的图案；以所述光刻胶层为掩膜，在所述开口区内沉积掩膜板的网格结构的材料，形成掩膜板的网格结构，所述网格结构的边缘与其所在的开口区的侧壁连接成为一体结构。

上述掩膜板的制作方法中，通过在开放式掩膜板的开口区内形成具有掩膜板的网格结构图案的光刻胶层，然后沉积网格结构材料直接形成网格结构，所形成的网格结构自然与开放式掩膜板的开口相接，从而避免了现有技术中对具有网格结构的FMM单元的张网过程，也就避免了张网过程所引起的网格结构受力不均匀问题，使得所形成的掩膜板的网格结构上各处受力均匀，从而掩膜板的显示区中不会出现褶皱，或者褶皱现象减轻，且掩膜板中网格结构的位置精度提高，提高了掩膜板的质量，进而有助于提高所蒸镀的发光层的质量。

基于上述技术方案，可选的，在所述开口区内沉积掩膜板的网格结构的材料采用电铸沉积工艺。

可选的，所述在所述开口区内形成光刻胶层的步骤，包括：在所述开口区内涂覆光刻胶；图案化所述光刻胶，去除所述网格结构中网格线位置处的光刻胶。

可选的，在去除所述网格结构中网格线位置处的光刻胶的同时，还去除所述网格结构周边一圈区域的光刻胶，以使所形成的网格结构的图案的面积小于所述开口区的面积，且所述网格结构的图案的边缘与所述开口区的侧壁之间具有间隙。

可选的，所述光刻胶层的厚度等于所述开放式掩膜板的厚度；或者，所述光刻胶层的厚度小于所述开放式掩膜板的厚度，且所述光刻胶层的一个表面与所述开放式掩膜板的一个表面齐平。

可选的，所述光刻胶层还覆盖所述开放式掩膜板的非开口区。

可选的，所述在所述开口区内形成光刻胶层的步骤之前，包括：将所述开放式掩膜板放置于基台上，使所述基台承托所述开口区。

可选的，所述形成掩膜板的网格结构的步骤之后，还包括：去除所述光刻胶层。