[发明专利]一种污染控制装置及方法、物镜系统及光刻机设备有效
申请号: | 201810548633.4 | 申请日: | 2018-05-31 |
公开(公告)号: | CN110554570B | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 李先明;郝保同 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 污染 控制 装置 方法 物镜 系统 光刻 设备 | ||
1.一种污染控制装置,其特征在于,包括至少一个风腔,所述风腔具有至少一个入风口,以及至少两个第一出风口和至少一组第二出风口;
每组所述第二出风口包括两个相对于所述风腔的中轴线对称的所述第二出风口;
所述第一出风口设置在所述第二出风口的外圈;
所述第一出风口的出风方向背向所述至少一个风腔的中心,且与所述至少一个风腔的中轴线呈第一夹角;所述第二出风口的出风方向朝向所述至少一个风腔的中心,且与所述中轴线呈第二夹角;所述第一出风口的出风方向与所述第二出风口的出风方向之间的夹角小于90°。
2.根据权利要求1所述的污染控制装置,其特征在于,所述风腔包括底板端和盖板端,所述底板端与所述盖板端相对设置,所述底板端和所述盖板端均为环状结构且限定成所述风腔。
3.根据权利要求2所述的一种污染控制装置,其特征在于,所述风腔为环形风腔。
4.根据权利要求3所述的污染控制装置,其特征在于,所述第一出风口设置在所述底板端的底板上;所述第二出风口设置在所述环形风腔的内侧面上。
5.根据权利要求3所述的污染控制装置,其特征在于,所述第一出风口与所述第二出风口的数量相等,且所述第一出风口与所述第二出风口分别一一对应设置。
6.根据权利要求3所述的污染控制装置,其特征在于,所述第二出风口包括平行设置的第一切片和第二切片,所述第一切片和所述第二切片的固定端均与所述环形风腔的内侧面连接,沿所述第一切片和所述第二切片的固定端到自由端的方向为所述第二出风口的出风方向。
7.根据权利要求6所述的污染控制装置,其特征在于,所述盖板端和所述底板端为两个独立的结构装配而成,所述第二出风口设置在所述底板端和所述盖板端的连接处;
所述第一切片固定于所述盖板端,所述第二切片固定于所述底板端;或者,所述第一切片固定于所述底板端,所述第二切片固定于所述盖板端。
8.根据权利要求2所述的污染控制装置,其特征在于,所述盖板端和所述底板端为一体成型。
9.根据权利要求1所述的污染控制装置,其特征在于,所述第一夹角为0-15°。
10.根据权利要求1所述的污染控制装置,其特征在于,所述第二夹角为30°-60°。
11.根据权利要求3所述的污染控制装置,其特征在于,所述环形风腔为圆环形风腔。
12.根据权利要求11所述的污染控制装置,其特征在于,所述至少两个第一出风口相对于所述圆环形风腔的圆心轴对称设置;
所述至少两个第一出风口位于所述底板端的底板上,且靠近所述圆环形风腔的圆心的一侧。
13.根据权利要求11所述的污染控制装置,其特征在于,每个所述第二出风口与所述圆环形风腔的圆心所组成的图形沿所述圆环形风腔的圆心轴的投影,被与所述第二出风口对应的所述第一出风口与所述圆环形风腔的圆心所组成的图形沿所述圆环形风腔的圆心轴的投影完全覆盖。
14.根据权利要求11所述的污染控制装置,其特征在于,所述至少两个第一出风口的长度占所述圆环形风腔的周长的比例为60%-85%;
所述至少一组第二出风口的长度占所述圆环形风腔的周长的比例为55%-80%。
15.根据权利要求2所述的污染控制装置,其特征在于,所述入风口设置在所述风腔的外侧面上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司,未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810548633.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:抗蚀剂组合物及图案化方法
- 下一篇:一种照明系统、曝光系统及光刻设备