[发明专利]一种污染控制装置及方法、物镜系统及光刻机设备

说明书

本发明公开了一种污染控制装置及方法、物镜系统及光刻机设备。该污染控制装置包括至少一个风腔，风腔具有至少一个入风口，以及至少两个第一出风口和至少一组第二出风口；每组第二出风口包括两个相对于风腔的中轴线对称的第二出风口；第一出风口设置在第二出风口的外圈；第一出风口的出风方向背向至少一个风腔的中心，且与至少一个风腔的中轴线呈第一夹角，第二出风口的出风方向朝向至少一个风腔的中心，且与中轴线呈第二夹角。本发明实施例提供的污染控制装置，通过设置至少两个第一出风口和至少一组第二出风口，在污染控制装置工作时可以形成半封闭空间，进而阻止污染物进入半封闭空间内。

技术领域

本发明实施例涉及光刻类设备技术领域，尤其涉及一种污染控制装置及方法、物镜系统及光刻机设备。

背景技术

作为光刻类设备的核心组件，物镜直接决定着产品的成像质量。在光刻类设备工作时，光从投影物镜的顶部入射，经物镜组调节后对待测产品进行曝光处理。顶部物镜为投影物镜的顶部的第一个物镜或玻板，顶部物镜通常直接暴露在光刻类设备内部环境中，顶部物镜的入光面尤其容易受到多种污染物污染，其中，污染物包括从外部环境进入光刻类设备的杂质颗粒，以及设备内部产生的化学分子污染和颗粒污染等。大量的污染物长期粘附于顶部物镜的入光面，会形成污染膜，降低整个物镜组的光透过率，降低成像效果，进而影响被曝光的产品质量。

为了保证物镜组的工作效率，需要对顶部物镜的入光面上的污染物进行定期擦拭清除。在擦拭污染物时，会不可避免地对顶部物镜造成损伤，因此，该处理方式不宜频繁使用；同时，这种接触式擦拭还受操作人员的熟练度等因素的影响较大，顶部物镜的擦除结果可能因人而异，难以存在统一量化的标准。

因此，有人设计了通过在顶部物镜上设置镜座，在镜座上安装一层极薄的物镜保护膜，从而防止污染物附着在顶部物镜的入光面上。这种方法虽可以有效防止顶部物镜的入光面的污染，但保护膜由于受到光的透射影响，极易破裂，寿命较短，需要定期更换。同时，受制于现有的技术水平，极薄的保护膜不仅安装操作难度大，还容易受外界气流等的影响而损坏(损坏率高达15％)，频繁更换物镜保护膜导致使用成本增加。

发明内容

本发明提供一种污染控制装置及方法、物镜系统及光刻机设备，以避免顶部物镜的入光面被污染。

第一方面，本发明实施例提供了一种污染控制装置，包括至少一个风腔，所述风腔具有至少一个入风口，以及至少两个第一出风口和至少一组第二出风口；

每组所述第二出风口包括两个相对于所述风腔的中轴线对称的所述第二出风口；

所述第一出风口设置在所述第二出风口的外圈；

所述第一出风口的出风方向背向所述至少一个风腔的中心，且与所述至少一个风腔的中轴线呈第一夹角；所述第二出风口的出风方向朝向所述至少一个风腔的中心，且与所述中轴线呈第二夹角；所述第一出风口的出风方向与所述第二出风口的出风方向之间的夹角小于90°。

进一步地，所述风腔包括底板端和盖板端，所述底板端与所述盖板端相对设置，所述底板端和所述盖板端均为环状结构且限定成一环形风腔。

进一步地，所述风腔为环形风腔。

进一步地，所述第一出风口设置在所述底板端的底板上；所述第二出风口设置在所述环形风腔的内侧面上。

进一步地，所述第一出风口与所述第二出风口的数量相等，且所述第一出风口与所述第二出风口分别一一对应设置。进一步地，所述第二出风口包括平行设置的第一切片和第二切片,所述第一切片和所述第二切片的固定端均与所述环形风腔的内侧面连接,沿所述第一切片和所述第二切片的固定端到自由端的方向为所述第二出风口的出风方向。

进一步地，所述盖板端和所述底板端为两个独立的结构装配而成，所述第二出风口设置在所述底板端和所述盖板端的连接处；