[发明专利]吸盘

说明书

本发明提供了一种吸盘，所述吸盘包括吸附单元、支撑固定单元、整体冷却单元及局部冷却单元，所述吸附单元设置于所述支撑固定单元上，所述局部冷却单元与所述整体冷却单元连通，并穿过所述支撑固定单元与所述吸附单元接触。通过利用局部冷却单元将整体冷却单元中的冷却介质引导至吸附单元下表面进行冷却，提高了冷却均匀性。

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种吸盘。

背景技术

光刻设备是一种通过光刻装置将图案成像在目标工件上的设备，可用于液晶面板的制造等。工作过程中，电机发热、摩擦生热以及外界环境温度等的影响，使得吸盘温度升高，吸盘温度通过热传递的方式传递给吸盘上的玻璃基板，使玻璃基板温度升高而产生热膨胀，导致玻璃基板尺寸发生变化。此外，由于不同区域的散热条件不尽相同，使玻璃基板不同区域存在较大的温度差而产生热变形，导致玻璃基板表面不平整。玻璃基板的热膨胀和热变形严重影响了设备成像质量。因此，有必要对吸盘的温度进行控制，防止温升过高以及温度不均匀而影响设备的成像的质量。

传统光刻设备中，大多数冷却措施主要针对工件台，却忽略了对吸盘的温度进行控制，随着时代的发展，玻璃基板的尺寸变得越来越大，吸盘的温度对玻璃基板的曝光质量影响也越来越严重。为了提高光刻设备的曝光质量，部分设备开始采用在吸盘内部铺设蛇形钢管，利用水冷却的方式降低吸盘的温度，这种冷却方式虽然在一定程度上降低了吸盘的整体温度，减少了玻璃基板的热膨胀率，但是冷却过程中出水口的温度始终高于入水口的温度而形成温度差，玻璃基板的热变形问题并没有得到解决。此外，钢管的热膨胀系数是吸盘材料的热膨胀系数的4-5倍，当温度变化较大时，钢管的变形量远大于吸盘，有使吸盘炸裂的危险。

如何在生产过程中控制吸盘的温度，从而保证玻璃基板尺寸稳定以及表面的平面度，使其得到最佳成像质量，一直是光刻设备面临的一个难题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种吸盘，以解决使用现有技术中吸盘存在温度不均衡，导致玻璃基板的尺寸稳定和表面平面度无法保证的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种吸盘，所述吸盘包括：吸附单元、支撑固定单元、整体冷却单元及局部冷却单元，所述吸附单元设置于所述支撑固定单元上，所述局部冷却单元与所述整体冷却单元连通，并穿过所述支撑固定单元与所述吸附单元接触。

可选的，在所述的吸盘中，所述局部冷却单元包括中空螺钉和连接块，所述中空螺钉穿过所述支撑固定单元，并卡设在所述支撑固定单元上，所述中空螺钉的顶部与所述吸附单元接触；所述中空螺钉的底部与所述连接块连接，所述中空螺钉通过连接块与所述整体冷却单元中的冷却介质连通。

可选的，在所述的吸盘中，所述中空螺钉与所述连接块之间由密封圈密封连接；所述中空螺钉与所述支撑固定单元之间由密封圈密封连接。

可选的，在所述的吸盘中，所述局部冷却单元的数量为若干个，若干个局部冷却单元按对称、均布的方式排列。

可选的，在所述的吸盘中，所述整体冷却单元包括若干冷却管路及设置于冷却管路上的流速阀，所述局部冷却单元与所述整体冷却单元中的冷却管路连通。

可选的，在所述的吸盘中，所述若干冷却管路平行分布。

可选的，在所述的吸盘中，所述若干冷却管路呈网格状分布。

可选的，在所述的吸盘中，还包括若干温度探测单元，设置于所述支撑固定单元上，以探测所述支撑固定单元不同区域的温度。

可选的，在所述的吸盘中，还包括控制器，所述控制器接收所有温度探测单元反馈的信号，并输出控制信号给各个温度探测单元所在区域的流速阀，流速阀根据所述控制信号调节所在冷却管路中冷却介质的流量。

可选的，在所述的吸盘中，还包括恒温箱，用于容置冷却介质。