[发明专利]一种位移测量系统和光刻机

说明书

本发明提供一种位移测量系统，用于测量第一运动台沿着预定方向移动的位移信息，所述位移测量系统包括：第二运动台，平行于所述预定方向移动；激光干涉仪测量装置，用于测量所述第二运动台沿着预定方向移动的位移信息；位移转换装置，用于将所述第二运动台沿着预定方向的移动按预定比例放大并驱动所述第一运动台沿着预定方向移动；以及控制装置，用于将所述第二运动台沿着预定方向移动的位移信息按预定比例放大为所述第一运动台沿着预定方向移动的位移信息；其中，所述第一运动台、所述第二运动台和所述激光干涉仪测量装置沿着预定方向依次分布。本发明中的位移测量系统和光刻机可以提高位移测量系统的测量精度和稳定性。

技术领域

本发明涉及位置测量技术领域，特别涉及一种位移测量系统和光刻机。

背景技术

激光干涉测量线位移技术是精度很高的标准测量技术，广泛应用于精密和超精密机械加工、微电子装备、纳米技术工业装备和国防装备等领域。图1是一种位移测量系统的原理图，如图1所示，位移测量系统用于测量运动台的位移信息，所述位移测量系统包括激光干涉仪110。所述运动台120上设置有反射镜130，能够反射激光干涉仪110发出的测量光束140。激光干涉仪110的测量光束140从激光干涉仪110内部反射出来，并被运动台120反射后再次被激光干涉仪110接收，从而实现运动台120的位移信息的测量。随着运动台120上的运动范围增大，激光干涉仪110的测量光路的长度也随之变长，这将意味着激光干涉仪110在空气中暴露的光路更长，光路受到环境的影响就更大。空气的温度、压力和湿度等发生变化时，空气的折射率也会随之变化，暴露在空气中的测量光路的波长也将随之发生变化，激光干涉仪110的测量光路越长，其受环境的影响越大，那么对激光干涉仪110的测量精度和稳定性的影响越大。

表1是一种位移测量系统以名义光程为1米为例分别计算温度和压力变化对于光程长度的影响的数据，所述数据具体如下：

名义光路长度[m]	压力变化量[Pa]	波长变化量[m]	光路变化量[m]
1	100	1.64681E-16	2.66407E-07
名义光路长度[m]	温度变化量[C]	波长变化量[m]	光路变化量[m]
1	0.1	5.70897E-17	9.23549E-08