[发明专利]吸附载台及光刻设备

权利要求书

1.一种吸附载台，其特征在于，包括：

多个子吸附平台单元，共同拼接构成吸附面以吸附平面器件；

多个子调平致动单元，每个子调平致动单元对应设置于一子吸附平台单元的下方，每个子调平致动单元包括至少三个压电致动器；以及

平台面型测量单元，用于测量每个子吸附平台单元和/或所述平面器件的平面度，并将测量的结果反馈给所述多个子调平致动单元；

其中，在安装所述子吸附平台单元时，对所述子吸附平台单元进行研磨使其平面度达到要求，并通过以下方法调整所述子吸附平台单元的面型：

使用单个子吸附平台单元大小的白玻璃作为测试，使用调焦调平传感器测量其平面度，在单个子吸附平台单元上测量若干点，对数据拟合平面后可以得到该平面与坐标轴的夹角，根据该角度控制对应该子吸附平台单元的子调平致动单元来调整该子吸附平台单元的面型。

2.如权利要求1所述的吸附载台，其特征在于，每个子调平致动单元包括三个压电致动器，三个压电致动器呈三角形分布。

3.如权利要求1所述的吸附载台，其特征在于，每个子调平致动单元包括四个压电致动器，其中三个压电致动器呈三角形分布，剩余一个压电致动器位于所述三角形的对称中心。

4.如权利要求3所述的吸附载台，其特征在于，所述压电致动器为压电陶瓷驱动器。

5.如权利要求1所述的吸附载台，其特征在于，所述子调平致动单元还包括与至少三个压电致动器连接的控制器。

6.如权利要求1所述的吸附载台，其特征在于，所述子吸附平台单元包括多孔陶瓷吸盘。

7.如权利要求6所述的吸附载台，其特征在于，所述子吸附平台单元还包括与多孔陶瓷吸盘连接的负压源。

8.如权利要求1～7中任一项所述的吸附载台，其特征在于，所述平面器件为玻璃基板。

9.一种光刻设备，其特征在于，包括照明单元、掩模台分系统、投影物镜分系统、工件台分系统、对准分系统、调焦调平分系统以及整机控制分系统，所述工件台分系统采用如权利要求1所述的吸附载台吸附待曝光对象。

10.如权利要求9所述的光刻设备，其特征在于，所述调焦调平分系统包括调焦调平传感器，所述调焦调平传感器作为所述吸附载台中的平台面型测量单元，测量每个子吸附平台单元和/或所述平面器件的平面度。