[发明专利]吸附载台及光刻设备

说明书

本发明提供了一种吸附载台及光刻设备，所述吸附载台中的多个子调平制动单元中每个子调平致动单元包括至少三个压电致动器。基于本发明中至少三个压电致动器中的三个压电致动器调平每个子吸附平台单元，从而使得吸附面的面型符合测试需求；还可以额外增加压电致动器，以调整单个子吸附平台单元在中间出现整体的突起或凹陷的问题，从而有效提高单个子吸附平台单元的平面度，有效提高吸附面的调平精度，从而提高平面器件的产品成像质量。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种吸附载台及光刻设备。

背景技术

光刻设备是一种通过光刻装置将图案成像在目标物料上的设备，可用于液晶面板的制造等，工作过程中，物料被吸附固定，被吸附后的物料平面度直接决定着成像的质量。

传统光刻设备中，放置物料被吸盘所吸附固定，通常的吸盘主要是整体式，物料被吸附后面型无法调整。随着大世代工件台的出现，所需吸盘的尺寸越来越大，做成整体式几乎无法实现，因此解决方案是将吸盘划分成多个子吸附单元，装配后对整体进行研磨使吸盘面型达标。但在实际使用过程中，当吸盘吸附物料面型不达标，再次调整面型需要对吸盘重新研磨，工作量较大。

针对现有技术中吸盘存在的不足，本领域技术人员一直在寻找解决的方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种吸附载台，以弥补现有吸盘的不足。

为解决上述技术问题，本发明提供一种吸附载台，所述吸附载台包括：

多个子吸附平台单元，共同拼接构成吸附面以吸附平面器件；

多个子调平致动单元，每个子调平致动单元对应设置于一子吸附平台单元的下方，每个子调平致动单元包括至少三个压电致动器；以及

平台面型测量单元，用于测量每个子吸附平台单元和/或所述平面器件的平面度，并将测量的结果反馈给所述多个子调平致动单元。

可选的，在所述的吸附载台中，每个子调平致动单元包括三个压电致动器，三个压电致动器呈三角形分布。

可选的，在所述的吸附载台中，每个子调平致动单元包括四个压电致动器，其中三个压电致动器呈三角形分布，剩余一个压电致动器位于所述三角形的对称中心。

可选的，在所述的吸附载台中，所述压电致动器为压电陶瓷驱动器。

可选的，在所述的吸附载台中，所述子调平致动单元还包括与至少三个压电致动器连接的控制器。

可选的，在所述的吸附载台中，所述子吸附平台单元包括多孔陶瓷吸盘。

可选的，在所述的吸附载台中，所述子吸附平台单元还包括与多孔陶瓷吸盘连接的负压源。

可选的，在所述的吸附载台中，所述平面器件为玻璃基板。

本发明还提供一种光刻设备，所述光刻设备包括照明单元、掩模台分系统、投影物镜分系统、工件台分系统、对准分系统、调焦调平分系统以及整机控制分系统，所述工件台分系统采用如上所述的吸附载台吸附待曝光对象。

可选的，在所述的光刻设备中，所述调焦调平分系统包括调焦调平传感器，所述调焦调平传感器作为所述吸附载台中的平台面型测量单元，测量每个子吸附平台单元和/或所述平面器件的平面度。