[发明专利]直压镭射膜的生产工艺在审
| 申请号： | 201810561371.5 | 申请日： | 2018-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN109016904A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 刘明辉 | 申请（专利权）人： | 无锡光群雷射科技有限公司 |
| 主分类号： | B41M1/24 | 分类号： | B41M1/24;B41M1/30;B41M3/06 |
| 代理公司： | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人： | 李猛 |
| 地址： | 214028 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 预热 镭射膜 镭射 压印 生产工艺 表面电晕处理 高温溶解 环保政策 客户需求 透明光泽 涂布工艺 压印成型 真空镀铝 防静电 附着性 抗撕裂 可回收 印刷性 裁切 镀铝 拉膜 透湿 粒子 分解 表现 | ||
1.一种直压镭射膜的生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：
（1）PET粒子高温溶解后，进行表面电晕处理，使表面附着度与镭射层更紧密；
（2）然后进行拉膜，根据客户需求裁切各种规格宽度的PET膜；
（3）PET膜进行第一次预热，预热后进行第一次镭射UV压印；
（4）PET膜进行第二次预热，预热后进行第二次镭射UV压印，镭射压印成型；
（6）进行真空镀铝，镀铝厚度保持在1.5~1.9Ω/m2。
2.根据权利要求1所述的直压镭射膜的生产工艺，其特征在于，步骤（1）中电晕处理时的电晕值达到50达因以上。
3.根据权利要求1所述的直压镭射膜的生产工艺，其特征在于，步骤（1）中PET粒子在400~600℃温度下溶解。
4.根据权利要求1所述的直压镭射膜的生产工艺，其特征在于，步骤（2）中PET膜的宽度控制在6~14米。
5.根据权利要求1所述的直压镭射膜的生产工艺，其特征在于，步骤（2）中PET膜的厚度控制在12μm~50μm。
6.根据权利要求1所述的直压镭射膜的生产工艺，其特征在于，步骤（3）中第一次预热的预热温度85~95℃。
7.根据权利要求1所述的直压镭射膜的生产工艺，其特征在于，步骤（3）中第一次镭射UV压印的UV紫外光温度控制在400~800MJ/CM2，压力控制在25~35KG，冷却温度要控制在16~20℃，生产速度65~75m/min。
8.根据权利要求1所述的直压镭射膜的生产工艺，其特征在于，步骤（4）中第二次预热的预热温度85~95℃。
9.根据权利要求1所述的直压镭射膜的生产工艺，其特征在于，步骤（4）中第二次镭射UV压印的UV紫外光温度控制在400~800MJ/CM2，压力控制在25~35KG，冷却温度要控制在16~20℃，生产速度65~75m/min。
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