[发明专利]图案产生装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810574917.0 申请日: 2018-06-06
公开(公告)号: CN110568652A 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 李元裕;许雅伶 申请(专利权)人: 扬明光学股份有限公司
主分类号: G02F1/1334 分类号: G02F1/1334;G02F1/1335
代理公司: 31264 上海波拓知识产权代理有限公司 代理人: 杨波
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;TW
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摘要:
搜索关键词: 聚合物分散液晶 图案产生装置 电源供应器 光路 光源 图案 光栅 相位信息 组件电性 制造
【说明书】:

一种图案产生装置,包括光源、第一全像聚合物分散液晶组件、第二全像聚合物分散液晶组件和电源供应器。第一全像聚合物分散液晶组件,位于光源的光路下游,第一全像聚合物分散液晶组件设有第一相位信息的图案。第二全像聚合物分散液晶组件,位于第一全像聚合物分散液晶组件的光路下游,第二全像聚合物分散液晶组件设有一定义光栅的图案。电源供应器分别与第一全像聚合物分散液晶组件和第二全像聚合物分散液晶组件电性连接。本发明另提出一种图案产生装置的制造方法。

技术领域

本发明涉及一种图案产生装置及图案产生装置制造方法。

背景技术

关于求解物体表面的形貌,编码结构光被认为是可靠的技术。结构光指的是一些具有特定图案的光,从最简单的线,面到格状等更复杂的图形都有。基本原理就是将一个或多个结构光投射到对象或场景上,并从一个或多个视角取像。由于图案已被编码,取像的点和投射点之间的对应关系,可以很容易地找到。译码后的各点可以利用三角函数法求解物体的三维信息。应用实例包括目标深度量测、距离侦测、制造零件的检测、逆向工程、手势识别和三维地图的建立。

“背景技术”段落只是用来帮助了解本发明内容,因此在“背景技术”段落所揭露的内容可能包含一些没有构成所属技术领域中具有通常知识者所知道的习知技术。在“背景技术”段落所揭露的内容,不代表所述内容或者本发明一个或多个实施例所要解决的问题,在本发明申请前已被所属技术领域中具有通常知识者所知晓或认知。

发明内容

本发明的其他目的和优点可以从本发明实施例所揭露的技术特征中得到进一步的了解。

根据本发明的一个观点,提供一种图案产生装置,包括光源、第一全像聚合物分散液晶组件、第二全像聚合物分散液晶组件和电源供应器。第一全像聚合物分散液晶组件,位于光源的光路下游,第一全像聚合物分散液晶组件设有第一相位信息的图案。第二全像聚合物分散液晶组件,位于第一全像聚合物分散液晶组件的光路下游,第二全像聚合物分散液晶组件设有一定义光栅的图案。电源供应器分别与第一全像聚合物分散液晶组件和第二全像聚合物分散液晶组件电性连接。通过电源供应器没有施加电压给第一全像聚合物分散液晶组件,使光源发出的光线经过第一全像聚合物分散液晶组件,转换成对应于第一相位信息图案的第一图案影像光,再通过电源供应器施加或没有施加电压给第二全像聚合物分散液晶组件,使第一图案影像光离开第二全像聚合物分散液晶组件时,直线或被偏折一角度,投射到待测物上。

根据本发明的另一个观点,提供一种图案产生装置,包括光源、可在绕射状态和非切换绕射状态切换的第一光栅、可在绕射状态和非切换绕射状态切换的第二光栅、光学绕射组件和电源供应器。第一光栅,位于光源的光路下游。第二光栅,位于第一光栅的光路下游。光学绕射组件,位于第二光栅的光路下游,设有相位信息的图案。电源供应器分别与第一光栅和第二光栅电性连接。通过电源供应器提供电压给第一光栅或第二光栅其中之一,使光源发出的光线经过第一光栅或第二光栅,被转折第一角度或第二角度入射到光学绕射组件,再转换成相对应相位信息图案的图案影像光,直线或被偏折一角度,投射到待测物上。

本发明实施例的一种图案产生装置,可提供一个光线相对准直,低功耗,低成本并可产生周期性图案的光学装置,进而扩大结构光可以应用的领域。

本发明的其他目的和优点可以从本发明所揭露的技术特征中得到进一步的了解。为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例并配合附图,作详细说明如下。

附图说明

图1是一种深度量测系统的架构示意图。

图2是本发明一实施例图案产生装置的架构示意图。

图3A和图3B分别是图2中全像聚合物分散液晶组件的截面图及透视图。

图4A和图4B分别是可在绕射状态和非切换绕射状态切换的光栅在被施加电压和没有被施加电压下的截面示意图。

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