[发明专利]一种全息镀铝薄膜脱铝方法在审
| 申请号： | 201810591755.1 | 申请日： | 2018-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN110578162A | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 游剑锋;李建兵;陈国华 | 申请（专利权）人： | 深圳市纳姆达科技有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/04 | 分类号： | C25F3/04;C25F5/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铝层 镀铝膜 模版 塑料薄膜 沟槽部 塑料薄膜表面 图案 镀制 制备 溶解 镀铝薄膜 二次套印 激光光学 激光设备 模压设备 全息制版 准确度 剪切 曝光 精细度 平面部 全息 烘干 图文 脱铝 电解 清洗 压制 加工 | ||
【权利要求书】：
1.一种全息镀铝薄膜脱铝方法，其结构包括塑料薄膜(1)、铝层(2)和图案(3)，塑料薄膜(1)表面镀制铝层(2)，塑料薄膜(1)上形成图案(3)，其特征在于：方法包括如下步骤：
步骤一：制备模版，利用激光设备进行全息制版，该模版中经过激光光学曝光的部分形成沟槽部，未曝光的部分形成平面部；
步骤二：制备镀铝膜，在塑料薄膜(1)表面镀制铝层(2)；
步骤三：利用模压设备将模版压制于镀铝膜的铝层(2)一侧，直至模版的沟槽部和平面部将铝层(2)剪切，以令铝层(2)对应沟槽部的位置与对应平面部的位置断裂；
步骤四：对镀铝膜进行电解，以令铝层(2)对应平面部的位置经电解去除，铝层(2)对应沟槽部的位置留存于塑料薄膜(1)上而形成图案(3)；
步骤五：对镀铝膜进行清洗、烘干。
2.根据权利要求1所述的一种全息镀铝薄膜脱铝方法，其特征在于：所述步骤一中，模版的沟槽部为栅栏形沟槽。
3.根据权利要求1所述的一种全息镀铝薄膜脱铝方法，其特征在于：所述步骤一中，模版为镍材质模版。
4.根据权利要求1所述的一种全息镀铝薄膜脱铝方法，其特征在于：所述步骤五中，清洗步骤利用清水进行清洗。
5.根据权利要求1所述的一种全息镀铝薄膜脱铝方法，其特征在于：所述步骤一中，模版的沟槽部深度小于0.01mm。
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