[发明专利]多段结晶方法及纯化化合物的装置有效
申请号: | 201810600659.9 | 申请日: | 2013-12-18 |
公开(公告)号: | CN108837549B | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | H.延森;M.普法伊尔 | 申请(专利权)人: | 苏尔寿管理有限公司 |
主分类号: | B01D9/02 | 分类号: | B01D9/02;C01B25/237;C01B25/234 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 王颖煜;黄念 |
地址: | 瑞士温*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 结晶 方法 纯化 化合物 装置 | ||
1.用于纯化化合物的装置,其包括:
(i) 悬浮结晶单元,
其特征在于
所述装置还包括
(ii) 层结晶单元,
(iii) 位于所述层结晶单元之后及所述悬浮结晶单元之前的贮存单元,
其中所述层结晶单元的任何层结晶阶段是静态结晶阶段,
其中所述层结晶单元包括用于将待纯化的液体化合物进料至层结晶单元中的入口和与贮存单元的入口流体连通的出口,以便将在层结晶单元中获得的中间体产物物流贮存在贮存单元中,其中所述贮存单元包括与悬浮结晶单元的入口流体连通的出口,其中任何在一个或多个悬浮结晶单元中进行的悬浮结晶阶段包括具有熔体回路的清洗柱,其中流体连通意指泵和/或管道输送层结晶单元出口至悬浮结晶单元入口之间以及贮存单元出口至悬浮结晶单元入口之间的流体。
2.根据权利要求1的装置,其中所述装置包括填充床清洗柱作为具有熔体回路的清洗柱。
3.根据权利要求2的装置,其中所述熔体回路具有用于添加溶剂的入口。
4.权利要求1-3任一项的装置用于纯化进料物流的用途,所述进料物流包含含有一种或多种金属或非金属杂质的化合物,其中所述化合物中每种金属或非金属杂质的浓度在所述用途中降低至低于1000 ppb。
5.根据权利要求4的用途,所述用途用于生产根据SEMI C36-0301的电子级磷酸。
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