[发明专利]一种用于生产AFG1的培养基及其制备AFG1标准品的方法在审

专利信息
申请号: 201810609029.8 申请日: 2018-06-13
公开(公告)号: CN108753865A 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 郭礼强;刘永强;张金玲;丁葵英;张立;许燕 申请(专利权)人: 郭礼强
主分类号: C12P17/18 分类号: C12P17/18
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 261000 山东省潍*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 培养基 标准品 制备 次级代谢产物 生产成本低 变温培养 潮湿条件 氮气吹干 工艺操作 溶剂回收 真菌毒素 转接 密封袋 重结晶 毒素 己烷 微氧 生产 引入 污染 安全
【说明书】:

本发明提出了一种用于生产AFG1的培养基及其制备AFG1标准品的方法,包括一级PDA液体培养基和二级培养基;本发明通过变温培养提高了次级代谢产物真菌毒素的产量;原料易得,生产成本低,工艺操作更安全;通过密封袋的引入,模拟了自然微氧潮湿条件,提高了毒素的转化率,减少了转接过程污染风险;提取方法简单;溶剂回收利用成本迪;通过氮气吹干AFG1结晶,加己烷重结晶纯度提高到99%以上。

技术领域

本发明涉及生物制备技术领域,尤其是涉及一种用于生产AFG1的培养基及其制备AFG1标准品的方法。

背景技术

黄曲霉毒素污染是农作物、食品和饲料中主要的质量安全问题之一,是全世界共同关注和需要攻克的难题,因此对于黄曲霉毒素标准物质的需求十分广泛。其中,AFG1被认为是一种致癌力最强的天然物质。世界各国都制定了严格的限量标准,然而黄曲霉毒素产生条件受地域、气候、种植作物、储存条件等一系列因素的影响,其特性使防控成为世界性的难题。黄曲霉毒素属于霉菌次级代谢产物,不是其繁殖必须的代谢物,产量少,基质复杂,培养和提取纯化有较高的工艺要求,造成其价格昂贵。

我国对真菌毒素的研究自上世纪80年代,起步较晚,随着检测技术的发展和食品安全意识的不断提高,我国政府监管部门高度重视真菌毒素防控工作,于2016年6月在北京召开了第一届中国真菌毒素大会,并由中国农业科学院农产品加工研究所在北京牵头成立了国家真菌毒素防控科技创新联盟。联盟主题是“合作研究、联合攻关、成果共享”构建长效合作机制,为农产品质量安全真菌毒素防控科技交流提供开放的平台。虽然我国的检测技术和设备与国外相比,已没有差距,但在黄曲霉毒素标准物质的研制和生产方面尚未起步。目前,黄曲霉毒素标准物质的生产和研制被国外大型生物公司垄断,我国使用的黄曲霉毒素标准品主要依靠进口,国外比较知名的公司有德国的SIGMA公司、美国的ROMER公司,美国的ALEXIS公司,奥地利的Biopure公司,新加坡的Pribolab公司,以及以色列的FERMENTEK公司。

目前,在黄曲霉毒素标准物质的研制方法检索到文献两篇,刘综河在1983年报道,通过大米培养基可以生产AFG1,其工艺简单,用氯仿或石油醚提取,柱层析纯化,但污染大,产量低,培养基配方原始,没有商业价值。另外,专利号2015102106062为一种黄曲霉毒素B1的制备方法,利用花生壳、花生渣和蔗糖等培养基制备黄曲霉毒素,通过乙酸乙酯提取,基质复杂,真菌毒素生长缓慢,干扰因素和固体废弃物较多,提取方式单一,制约商品化生产。

发明内容

本发明提出一种用于生产AFG1的培养基及其制备AFG1标准品的方法,工艺简便,生产成本低,过程安全可控,收率高,特别适于商品化生产。

本发明的一种技术方案是这样实现的:

AFG1主要结构为二氢呋喃环和香豆素,分子式为C17H12O7,难溶于水,易溶于油、甲醇、丙酮和氯仿等有机溶剂,一般在中性溶液中较稳定,但在强酸性溶液中稍有分解,在pH9-10的强碱溶液中分解迅速,其纯品为无色结晶,耐高温,熔点为244-246℃,结构式如下:

一种用于生产AFG1的培养基,包括一级PDA液体培养基和二级培养基;

其中,所述一级PDA液体培养基的制备包括如下步骤:将土豆削皮切丁,每195g-205g土豆加入495-505mL的水,煮沸30min;双层纱布过滤至烧杯中,加入15-25g蔗糖,加水至1L,每50mL溶液分装入250mL三角瓶,121℃高压灭菌20min;

所述二级培养基的成份按照重量份包括:玉米粉975-985g,鸡蛋175-185g,酵母粉10-20g,蛋白胨30-40g,蔗糖180-190g,玉米浆575-585g,氯化钠3-7g,花生饼粉75-85g,水575-585g;

所述二级培养基的制备包括如下步骤:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郭礼强,未经郭礼强许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810609029.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top