[发明专利]一种快速上料的半导体光刻板清洗装置

说明书

本发明涉及一种半导体光刻板生产领域，尤其涉及一种快速上料的半导体光刻板清洗装置。一种快速上料的半导体光刻板清洗装置，该装置包括外罩机架组件以及依次设置在外罩机架组件内的上料机构、第一旋转抓取装置、第一定位顶升输送滚轮装置、第一输送滚轮装置、第一直线移动抓取机构、第一清洗装置、第二输送滚轮装置和第一粘尘机构；所述的上料机构包括放料座、辊道和上料小车；该装置采用自动化快速上料，提高了自动化程度高，批量处理能力强，可以广泛用于工业生产之中。

技术领域

本发明涉及一种半导体光刻板生产领域，尤其涉及一种快速上料的半导体光刻板清洗装置。

背景技术

光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺。其工艺质量直接影响着器件成品率、可靠性、器件性能以及使用寿命等参数指标。光罩是光刻工艺中的一个重要环节，光刻板必须非常洁净，所有硅片上的电路元件都来自版图。如果光刻板不洁净，存在污染颗粒，这些颗粒就会被复制到硅片表面的光刻胶上，造成器件性能的下降。然而，光刻板在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污染物，这些污染物的存在直接影响到光刻的效果。为了保证光刻板洁净，必须定期对光刻板进行清洗，而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。

中国发明专利（公开号CN105590879A）公开了一种全自动光刻板清洗机，由上下料单元、清洗单元、翻转单元、光刻版传输单元、定位单元、药液供给与循环单元和温度控制单元组成。 但是该专利没有公开如何进行上料。

发明内容

本发明的目的是提供一种快速上料的半导体光刻板清洗装置，该装置采用自动化快速上料，提高了自动化程度高，批量处理能力强，可以广泛用于工业生产之中。

为了实现上述的目的，本发明采用了以下的技术方案：

一种快速上料的半导体光刻板清洗装置，该装置包括外罩机架组件以及依次设置在外罩机架组件内的上料机构、第一旋转抓取装置、第一定位顶升输送滚轮装置、第一输送滚轮装置、第一直线移动抓取机构、第一清洗装置、第二输送滚轮装置和第一粘尘机构；所述的上料机构上的光刻板通过第一旋转抓取装置放置至第一定位顶升输送滚轮装置，第一定位顶升输送滚轮装置连接第一输送滚轮装置，第一输送滚轮装置上的光刻板通过第一直线移动抓取机构放置至第一清洗装置并由第一直线移动抓取机构取出放置至第二输送滚轮装置，第二输送滚轮装置连接第一粘尘机构；所述的上料机构包括放料座、辊道和上料小车；可移动式放料座用于放置待加工的光刻板，放料座底面平整，上部设置V型储料槽，V型储料槽的出料一边低于靠料一边；所述的辊道安装在两侧的辊道侧板中，辊道侧板固定安装在机架上，辊道与上料小车相互衔接，放料座能在辊道和上料小车上移动；所述的辊道的末端设置有料座锁紧装置锁紧放料座和辊道，并在辊道的外侧设置有小车锁紧装置锁紧上料小车和辊道。

作为进一步改进，所述的料座锁紧装置包括旋转气缸和锁紧板，旋转气缸设置在辊道靠近设备里面的一端，锁紧板的一端安装在旋转气缸上，不旋转时，锁紧板一侧与辊道水平，旋转气缸旁还安装有接近传感器，辊道侧板两侧也各有一个接近传感器，旋转气缸两旁还装有两个限位块。

作为进一步改进，所述的小车锁紧装置包括两个气缸、导向杆和锁紧板，在辊道靠近外面的一侧下方有一固定安装在机架上的挡板，挡板内测安装有两个气缸， 气缸旁还有两个导向杆，气缸和导向杆共同安装在气缸安装板上，气缸安装板通过两个杆固定安装机架上，两根杆上个安装有一个小车滚轮；挡板的另一侧，与小车滚轮对应的位置有两个窗口，小车滚轮通过窗口露出来；所述的锁紧板与气缸的活塞杆相连接，锁紧板上设置有横架，横架上设置有放横梁的槽；上料小车的一端放置在横架的槽里，并在横架上设置有插板，气缸上升时插板能与上料小车上的横梁相互锁紧。

作为进一步改进，所述的第一旋转抓取装置包括真空吸盘装置和摆臂装置；