[发明专利]触控面板及其制作方法

权利要求书

1.一种触控面板，其特征在于，包含：

一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；

一触控感应电极，设置于该基板的该显示区；

一腐蚀抑制单元，该腐蚀抑制单元至少设置于该显示区；以及

一周边线路，设置于该基板的该周边区，该触控感应电极电性连接该周边线路；

其中，该触控感应电极包括图案化后的一金属纳米线层的一第一部分，该周边线路包括一导电层及该金属纳米线层的一第二部分，该导电层直接接触该金属纳米线层的该第二部分，该导电层及该金属纳米线层的该第二部分具有共同蚀刻面。

2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该腐蚀抑制单元包括添加于该金属纳米线层的腐蚀抑制剂，该触控感应电极中具有该腐蚀抑制剂，该周边线路中具有该腐蚀抑制剂。

3.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，该金属纳米线层添加有1％～10％的该腐蚀抑制剂。

4.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，更包括一设置于该金属纳米线层上的底涂层，其中该腐蚀抑制单元包括添加于该底涂层的腐蚀抑制剂。

5.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该腐蚀抑制单元包括一设置于该金属纳米线层上的抗蚀层，该触控感应电极与该抗蚀层具有相同图案。

6.根据权利要求5所述的触控面板，其特征在于，该抗蚀层为一具有图案的光刻胶材料，该光刻胶材料成形于该显示区而不成形于该周边区。

7.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该触控感应电极包括一设置于该基板的上表面的第一触控感应电极及一设置于该基板的下表面的第二触控感应电极；该腐蚀抑制单元包括一设置于该第一触控感应电极上的第一抗蚀层及一设置于该第二触控感应电极上的第二抗蚀层，该第一触控感应电极与该第一抗蚀层具有相同图案，该第二触控感应电极与该第二抗蚀层具有相同图案。

8.根据权利要求7所述的触控面板，其特征在于，该第一抗蚀层及该第二抗蚀层为具有相同光波段吸收特性的光刻胶，该第一抗蚀层吸收大于一第一曝光源的光线总能量的80％，该第二抗蚀层吸收大于一第二曝光源的光线总能量的80％。

9.根据权利要求7所述的触控面板，其特征在于，该第一抗蚀层及该第二抗蚀层为具有相同光波段吸收特性的光刻胶，该第一感光层及该第二感光层添加有0.1％～10％的光吸收添加物。

10.根据权利要求7所述的触控面板，其特征在于，该第一抗蚀层及该第二抗蚀层为具有不同光波段吸收特性的光刻胶。

11.一种触控面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基板，该基板具有一显示区与一周边区；

设置由金属纳米线所组成的一金属纳米线层于该基板上；

设置一腐蚀抑制单元，其中该腐蚀抑制单元至少位于该显示区；

设置一导电层于该金属纳米线层上；

移除位于该显示区的该导电层；以及

进行图案化步骤，包括：图案化位于该显示区的该金属纳米线层以形成一触控感应电极，并同时图案化位于该周边区的该导电层与该金属纳米线层以形成一周边线路。

12.根据权利要求11所述的触控面板的制作方法，其特征在于，该设置腐蚀抑制单元包括添加腐蚀抑制剂于该金属纳米线层中。

13.根据权利要求12所述的触控面板的制作方法，其特征在于，该金属纳米线层添加有1％～10％的该腐蚀抑制剂。

14.根据权利要求12所述的触控面板的制作方法，其特征在于，该移除位于该显示区的该导电层包括利用一第一蚀刻液将位于该显示区的该导电层去除；在该移除位于该显示区的该导电层之后，该金属纳米线层的电阻值变化在10％以下。