[发明专利]触控面板及其制作方法

说明书

本发明公开一种触控面板及其制作方法，触控面板包括：基板，其具有显示区与周边区；触控感应电极，设置于基板的显示区；腐蚀抑制单元，至少设置于显示区；周边线路，设置于基板的周边区，触控感应电极电性连接周边线路；其中，触控感应电极包括图案化后的金属纳米线层的第一部分，周边线路包括导电层及金属纳米线层的第二部分，导电层直接接触金属纳米线层的第二部分，导电层及金属纳米线层的第二部分具有共同蚀刻面。本发明具有高制作效率、线路阻抗低、显示区的光学及电性特性良好的优势。

技术领域

本发明涉及一种触控面板及其制作方法。

背景技术

由于透明导体可同时具有光穿透性与适当的导电性，因而可应用于显示面板或触控面板相关的装置中。一般而言，透明导体可以是各种金属氧化物，例如氧化铟锡(IndiumTin Oxide，ITO)、氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)、氧化镉锡(Cadmium Tin Oxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-doped Zinc Oxide，AZO)。然而，这些金属氧化物薄膜的某些特性已经受到挑战，例如可挠性不足。在部分情况下，经图案化的金属氧化物薄膜也可能有容易被使用者观察到的问题。因此，现今发展出了多种透明导体，例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。

然而利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的金属引线在工艺上及结构上都有许多待解决的问题，例如传统工艺采用的蚀刻液大多为强酸性，故会导致纳米线受到蚀刻液的作用，使产品的光学特性或电特性下降，例如纳米线受到蚀刻液作用造成电阻上升的问题；另外，蚀刻液对于不同材料的蚀刻速率及蚀刻选择性的问题也需要额外的进行研究方能克服。

再一方面，利用纳米线制作触控感应电极的工艺中，纳米线与周边区的金属引线会有接触阻抗过高的问题。

因此在利用纳米线制作触控感应电极的工艺上、电极结构上必须依照材料特性重新设计，使产品达到较佳的表现。

发明内容

本发明的部分实施方式，提出了解决前述问题的触控面板制作方法，其具有高制作效率、线路阻抗低、显示区的光学及电性特性良好的优势。

本发明的部分实施方式提出一种触控面板，包括：基板，其具有显示区与周边区；触控感应电极，设置于基板的显示区；腐蚀抑制单元，至少设置于显示区；周边线路，设置于基板的周边区，触控感应电极电性连接周边线路；其中，触控感应电极包括图案化后的金属纳米线层的第一部分，周边线路包括导电层及金属纳米线层的第二部分，导电层直接接触金属纳米线层的第二部分，导电层及金属纳米线层的第二部分具有共同蚀刻面。

于本发明的部分实施方式中，腐蚀抑制单元包括添加于金属纳米线层的腐蚀抑制剂，触控感应电极中具有腐蚀抑制剂，周边线路中具有腐蚀抑制剂。

于本发明的部分实施方式中，金属纳米线层添加有1％～10％的腐蚀抑制剂。

于本发明的部分实施方式中，更包括一设置于金属纳米线层上的底涂层，其中腐蚀抑制单元包括添加于底涂层的腐蚀抑制剂。

于本发明的部分实施方式中，腐蚀抑制单元包括一设置于金属纳米线层上的抗蚀层，触控感应电极与抗蚀层具有相同图案。

于本发明的部分实施方式中，抗蚀层为具有图案的光刻胶材料，光刻胶材料成形于显示区而不成形于周边区。

于本发明的部分实施方式中，触控感应电极包括设置于基板的上表面的第一触控感应电极及设置于基板的下表面的第二触控感应电极；腐蚀抑制单元包括设置于第一触控感应电极上的第一抗蚀层及设置于第二触控感应电极上的第二抗蚀层，第一触控感应电极与第一抗蚀层具有相同图案，第二触控感应电极与第二抗蚀层具有相同图案。

于本发明的部分实施方式中，第一抗蚀层及第二抗蚀层为具有相同光波段吸收特性的光刻胶，第一抗蚀层吸收大于第一曝光源的光线总能量的80％，第二抗蚀层吸收大于第二曝光源的光线总能量的80％。