[发明专利]除静电支撑结构、基板运载设备在审
| 申请号： | 201810629455.8 | 申请日： | 2018-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN108633155A | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | 严道波 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H05F3/04 | 分类号： | H05F3/04;H05F3/06 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 支撑结构 除静电 基板 运载设备 处理基板 载台 产品品质 电极部件 设备生产 生产设备 正负离子 静电 喷嘴 电极针 放电 产能 破片 探针 粘片 气管 节拍 中和 释放 支撑 | ||
1.一种用于承载基板的除静电支撑结构，其特征在于，所述除静电支撑结构包括用于释放离子的喷嘴和用于产生所述离子的电极部件；
所述喷嘴位于所述除静电支撑结构的一端，所述喷嘴与所述电极部件连接；
所述除静电支撑结构用于支撑待处理基板、以及释放中和所述待处理基板与载台之间静电的正负离子。
2.根据权利要求1所述的除静电支撑结构，其特征在于，所述喷嘴包括至少一个出风口，所述出风口用于释放所述除静电支撑结构所产生的所述正负离子。
3.根据权利要求2所述的除静电支撑结构，其特征在于，所述除静电支撑结构还包括电极针，所述电极部件和所述电极针用于产生所述待处理基板所需的所述正负离子。
4.根据权利要求1所述的除静电支撑结构，其特征在于，还包括用于防止所述电极部件极化的放电防止帽。
5.根据权利要求1所述的除静电支撑结构，其特征在于，所述除静电支撑结构还包括气管，
所述气管用于输送压缩空气，所述压缩空气用于将所述电极部件和所示电极针产生的所述正负离子输送至所述喷嘴。
6.根据权利要求5所述的除静电支撑结构，其特征在于，所述气管包括第一气管和第二气管，所述第一气管设置于所述电极部件和所述电极针的内部；
所述第一气管的一端固定于与所述电极部件的出口处，所述第一气管的另一端与所述第二气管连接；
所述第二气管的一端与所述第一气管连接，所述第二气管的另一端与压缩空气源连接，所述第二气管被铝制金属所包裹。
7.根据权利要求5所述的除静电支撑结构，其特征在于，所述气管为全氟丙基全氟乙烯基醚与聚四氟乙烯的共聚物制成。
8.根据权利要求1所述的除静电支撑结构，其特征在于，所述除静电支撑结构还包括AC适配器和延伸电缆。
9.一种包括如权利要求1所述的除静电支撑结构的基板运载设备，其特征在于，所述基板运载设备包括第一支撑台、第二支撑台以及除静电支撑结构；
所述第二支撑台设置于所述第一支撑台上，所述第二支撑台用于装载待处理基板；
所述除静电支撑结构的一端固定在所述第一支撑台上，所述除静电支撑结构的另一端与所述待处理基板接触，所述第一支撑台通过控制所述除静电支撑结构上、下运动，以控制所述待处理基板的升降。
10.根据权利要求9所述的基板运载设备，其特征在于，所述第二支撑台包括多个通孔，部分所述除静电支撑结构通过所述通孔与所述待处理基板接触。
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