[发明专利]化学增幅型正型感光性树脂组成物、光致抗蚀剂图案及其形成方法以及电子装置在审
| 申请号： | 201810632052.9 | 申请日： | 2018-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN109116681A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 许智航;刘骐铭;吴明儒;施俊安 | 申请（专利权）人： | 奇美实业股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 张晓霞;臧建明 |
| 地址： | 中国台湾台南*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 正型感光性树脂 化学增幅型 组成物 光致抗蚀剂图案 电子装置 聚硅氧烷 聚羟基苯乙烯树脂 酸解离性保护基 耐热性 光酸产生剂 硅烷单体 溶剂 感度 缩合 | ||
1.一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，包括：
含有酸解离性保护基的聚羟基苯乙烯树脂(A)；
聚硅氧烷(B)；
光酸产生剂(C)；以及
溶剂(D)，
所述聚硅氧烷(B)至少是由式(B-1)表示的硅烷单体聚缩合而得：
Si(Ra)w(ORb)4-w 式(B-1)
式(B-1)中，Ra各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳香基、含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或含有环氧基的碳数为1至10的烷氧基；
Rb各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基；
w表示1至3的整数；
且至少一个Ra表示含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或含有环氧基的碳数为1至10的烷氧基。
2.根据权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其中还包括碱性化合物(E)。
3.根据权利要求2所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其中所述碱性化合物(E)包括由式(E-1)所示的化合物：
N(X)z(Y)3-z 式(E-1)
式(E-1)中，X各自独立表示碳数为4以上的烷基、碳数为3以上的环烷基、苯基或芳烷基；
Y各自独立表示氢原子或碳数为3以下的烷基；
z表示1至3的整数。
4.根据权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其中基于所述含有酸解离性保护基的聚羟基苯乙烯树脂(A)的总使用量为100重量份，所述聚硅氧烷(B)的含量为10重量份至100重量份，所述光酸产生剂(C)的含量为0.3重量份至3重量份，所述溶剂(D)的含量为150重量份至1200重量份。
5.根据权利要求2所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其中基于所述含有酸解离性保护基的聚羟基苯乙烯树脂(A)的总使用量为100重量份，所述碱性化合物(E)的含量为0.03重量份至0.3重量份。
6.一种光致抗蚀剂图案的形成方法，包括：
将根据权利要求1至5中任一项所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物以涂布、曝光、显影处理的方式形成光致抗蚀剂图案。
7.一种光致抗蚀剂图案，其特征在于，由权利要求6所述的光致抗蚀剂图案的形成方法所形成。
8.一种电子装置，其特征在于，包括权利要求7所述的光致抗蚀剂图案。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奇美实业股份有限公司，未经奇美实业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810632052.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：压印模板及其制作方法
- 下一篇：一种用于调整光学元件位姿的装置及调整方法
- 化学增幅正型光阻组合物及光阻图案形成方法
- 可用于化学增幅型正性光刻胶的敏化剂及其在制备化学增幅型正性光刻胶中的应用
- 一种深紫外化学增幅型正性光致抗蚀剂
- 化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液、化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的收容容器、以及使用其的图案形成方法、电子元件的制造方法及电子元件
- 化学增幅型抗蚀剂膜的图案化用有机系处理液的收容容器及其用途
- 化学增幅型感光性树脂组合物及由其制造的绝缘膜
- 化学增幅型正型感光性树脂组成物、光阻图案及其形成方法以及电子装置
- 化学增幅型光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂图案和用于制备光致抗蚀剂图案的方法
- 化学增幅型正型感光性树脂组成物、保护膜及组件
- 化学增幅型正型感光性树脂组合物及其应用
