[发明专利]沉积钙钛矿电池的方法在审
申请号: | 201810635954.8 | 申请日: | 2018-06-20 |
公开(公告)号: | CN110620179A | 公开(公告)日: | 2019-12-27 |
发明(设计)人: | 李梦露 | 申请(专利权)人: | 李梦露 |
主分类号: | H01L51/42 | 分类号: | H01L51/42;H01L51/48 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 225000 江苏省扬州市邗江区维扬经*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 制备 钙钛矿 四氯化钛溶液 致密二氧化钛 制备钙钛矿 电池制备 二氧化钛 钙钛矿层 电极 对电极 结晶性 两步法 实验用 支架层 薄膜 电池 | ||
本发明提供了电池制备技术领域内的沉积钙钛矿电池的方法,包括以下步骤,(1)准备实验用药品和仪器;(2)准备电极部分;(3)制备致密二氧化钛底层;(4)制备二氧化钛支架层;(5)处理四氯化钛溶液;(6)处理Li‑TFSI;(7)制备多次沉积法制备钙钛矿—PbT2薄膜;(8)制备钙钛矿:采用多次沉积两步法制备FAPbI3和FAMAPbI3,第二步为沉积FAI或MAI,制备完整钙钛矿层;(9)沉积Spiro‑OMeTAD;(10)沉积金对电极;使用本发明结晶性强度大。
技术领域
本发明属于淀粉制备技术领域,特别涉及沉积钙钛矿电池的方法。
背景技术
钙钛矿太阳能电池近几年得到人们的广泛关注[49-52],短短几年时间,转换效率从 3.8%迅速升到了 22.1%[34, 42, 53-58],甚至超过了多晶硅太阳能电池效率 20.8%。α相 FAPbI3钙钛矿太阳能电池由于其相对于 MAPbI3钙钛矿具有更高的热稳定性和更理想的禁带宽度(Eg≈1.45 eV)[59, 60],越来越受到研究者的青睐。室温下,MAPbI3钙钛矿材料具有单一形态,但是,FAPbI3钙钛矿材料具有多种形态,δ-FAPbI3是黄相非钙钛矿型,α-FAPbI3是黑相钙钛矿型。只有后一种α-FAPbI3钙钛矿形态有良好的光电性能。所以,FAPbI3钙钛矿薄膜的晶化和生长,抑制δ-相形成对于制备高效 FAPbI3基钙钛矿太阳能电池是十分重要的。
现有技术中,使用一步法和两步法直接将MA替换为FA进行制备,很容易出现非钙钛矿相,结晶性强度低。
发明内容
针对现有技术中的缺陷,本发明的目的在于克服上述现有技术中的不足之处,提供沉积钙钛矿电池的方法,本发明不容易出现非钙钛矿相,结晶性强度大。
本发明的目的是这样实现的:沉积钙钛矿电池的方法,包括以下步骤,包括以下步骤:
(1)准备实验用药品和仪器;
(2)准备电极部分;
(3)制备致密二氧化钛底层;
(4)制备二氧化钛支架层;
(5)处理四氯化钛溶液;
(6)处理Li-TFSI;
(7)制备多次沉积法制备钙钛矿—PbT2薄膜;
(8)制备钙钛矿:采用多次沉积两步法制备FAPbI3和FAMAPbI3,第二步为沉积FAI或MAI,制备完整钙钛矿层;
(9)沉积Spiro-OMeTAD:先制备Spiro-OMeTAD,制备好Spiro-OMeTAD后,旋涂法完成Spiro-OMeTAD的沉积,旋涂完成后,将膜放在60℃的热盘上烘5min;
(10)沉积金对电极:采用真空热蒸法沉积Au对电极,将真空腔室放入电池样品和金,抽真空到10-7torr的真空度,进行蒸镀金厚度为80nm。
作为本发明的进一步改进,所述步骤(2)中,具体包括以下步骤:将准备好的FTO玻璃用激光进行FTO刻蚀,并切成1.5cm*1.5cm大小,对玻璃基底进行清洗,具体的为,将FTO基底用洗洁精和水的混合液进行浸泡和搓洗,搓洗完的基底用洗洁精溶液进行30min的超声处理,用清水将基底表面含有清洗机的溶液清洗感觉,用氢氧化钾和乙醇的混合溶液进行超声处理,倒掉碱液,用去离子水进行冲洗基底至少三次,使得碱液去除干净,去离子水超声至少三次,用氮气将基底吹干待用。
作为本发明的进一步改进,所述步骤(3)中,具体包括以下步骤,
(301)配制TiO2底层溶液:将钛酸四异丙酯溶液加入正丁醇溶液中,浓度为1M,搅拌三天,配置好母液待用;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
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