[发明专利]一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法在审
申请号: | 201810637368.7 | 申请日: | 2018-06-20 |
公开(公告)号: | CN108675788A | 公开(公告)日: | 2018-10-19 |
发明(设计)人: | 包松养 | 申请(专利权)人: | 江苏瑞尔光学有限公司 |
主分类号: | C04B35/48 | 分类号: | C04B35/48;C04B35/622;C04B35/63;C23C14/34 |
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地址: | 212300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 靶材 镀膜 制备 稳定氧化锆 氧化锆 折射率不均匀性 烧结工艺步骤 氧化锆薄膜 镀膜过程 镀膜技术 有效解决 损伤 节约 安全 | ||
1.一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
A.配料
采用氧化锆和氧化钇(稳定剂)粉料为原料,其重量份配比:300目氧化锆100份,1400目氧化锆90~110份,稳定剂30~50份,所述稳定剂为氧化钇或氧化鈰,或者,采用复合稳定剂,并将上述原料混合均匀,获得混合氧化物;
B.添加粘合剂
在混合氧化物中,加入粘合剂,其重量份数配比为:混合氧化物100份,粘合剂0.5份~5份,加水适量,调和均匀,获得粘合配料;
C.烘燥
将前道获得的粘合配料在烘箱中烘燥,烘干水分,烘燥温度90℃~110℃温度,获得干燥配料;
D.压制
将前道获得的干燥配料置于合金模具中,压制成形,获得烧结前驱物;
E.烧结
把上述烧结前驱物,装入容器,置于真空烧结炉中烧结,真空度为0.01帕~0.0001帕,烧结温度为1600℃~2000℃,保温2小时~6小时,然后自然冷却降温至室温,获得成品。
2.根据权利要求1所述的一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法,其特征在于,所述烧结前驱物在置于真空烧结炉中烧结前,进行预烧,预烧温度为800℃~1000℃。
3.根据权利要求1所述的一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法,其特征在于,所述复合稳定剂为氧化钇添加适量氧化鈰,所述氧化鈰为氧化钇重量1~10%。
4.根据权利要求1所述的一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法,其特征在于,所述复合稳定剂为氧化鈰添加适量氧化钇,所述氧化钇为氧化鈰重量1~8%。
5.根据权利要求1所述的一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法,其特征在于,所述粘合剂为聚乙烯醇或羧甲基纤维素。
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