[发明专利]一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法

说明书

本发明公开一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法，涉及镀膜技术领域，包括配料和烧结工艺步骤。本发明，设计科学、合理，对于所述镀膜靶材，制备方便、节约，作用安全、可靠，能够有效解决氧化锆镀膜靶材开裂问题，能解决传统氧化锆镀膜靶材镀膜过程中的不稳定和折射率不均匀性问题，提高氧化锆薄膜的损伤阈值，确保产品质量。

技术领域

本发明涉及镀膜技术领域，尤其涉及稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法。

技术背景

光学镀膜常在相机镜头、近视、远视、老花镜等矫正眼镜上使用，用以增加其透光度，提高表明硬度。现有技术采用氧化锆靶材镀膜，镀膜时容易产生开裂，直接影响产品质量。

发明内容

针对上述光学镀膜中存在的技术问题，本发明目的在于，提供一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法，采用添加稳定剂和不同细度氧化锆混合的配方，加以解决。

本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：

一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

A.配料

采用氧化锆和氧化钇（稳定剂）粉料为原料，其重量份配比：300目氧化锆100份，1400目氧化锆90～110份，稳定剂30～50份，所述稳定剂为氧化钇或氧化鈰，或者，采用复合稳定剂，并将上述原料混合均匀，获得混合氧化物；

B.添加粘合剂

在混合氧化物中，加入粘合剂，其重量份数配比为：混合氧化物100份，粘合剂0.5份～5份，加水适量，调和均匀，获得粘合配料；

C.烘燥

将前道获得的粘合配料在烘箱中烘燥，烘干水分，烘燥温度90℃～110℃温度，获得干燥配料；

D.压制

将前道获得的干燥配料置于合金模具中，压制成形，获得烧结前驱物；

E.烧结

把上述烧结前驱物，装入容器，置于真空烧结炉中烧结，真空度为0.01～0.0001帕，烧结温度为1600℃～2000℃，保温2小时～6小时，然后自然冷却降温至室温，获得成品。

所述烧结前驱物在置于真空烧结炉中烧结前，进行预烧，预烧温度为800℃～1000℃。

所述复合稳定剂为氧化钇添加适量氧化鈰，所述氧化鈰为氧化钇重量1～10%。

所述复合稳定剂为氧化鈰添加适量氧化钇，所述氧化钇为氧化鈰重量1～8%。

所述粘合剂为聚乙烯醇或羧甲基纤维素。

本发明一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法，设计科学、合理，对于所述镀膜靶材，制备方便、节约，作用安全、可靠，能够有效解决氧化锆镀膜靶材开裂问题，能解决传统氧化锆镀膜靶材镀膜过程中的不稳定和折射率不均匀性问题，提高氧化锆薄膜的损伤阈值，确保产品质量。

附图说明

图1为本发明一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法工艺步骤框图。

具体实施方式

氧化锆开裂的存在，主要原因是因为氧化锆具有独特的相变过程，因此需要做稳定处理以获得我们所需要的产品品质。本发明解决氧化锆开裂问题基本机理如下：

1、氧化锆（ZrO2）的相变过程

纯氧化锆从高温冷却到室温的过程中将发生如下相变：立方相（c）→四方相（t）→单斜相（m），其中在1150℃会发生t→m相变，并伴随着约5%的体积膨胀。