[发明专利]陶瓷抛光废渣或陶瓷废料生产超薄陶瓷抛光砖的方法

权利要求书

1.陶瓷抛光废渣或陶瓷废料生产超薄陶瓷抛光砖的方法，包括如下步骤：

1)对陶瓷抛光废渣或陶瓷废料以及陶瓷抛光砖配料进行超微细化处理，使超微细化处理后出料粉体粒度控制在0.1μm～5μm之间，

所述陶瓷抛光砖配料包括石英、高岭土和长石，并且所述陶瓷抛光废渣或陶瓷废料与陶瓷抛光砖配料的重量比例为，陶瓷抛光废渣或陶瓷废料5～95份、石英1～10份、高岭土3～60份、长石1～25份；

2)干燥超微细化后的粉体；

3)将干燥后的粉体压制成型后烧成、抛光得到成品。

2.根据权利要求1所述的陶瓷抛光废渣或陶瓷废料生产超薄陶瓷抛光砖的方法，其特征在于：所述超微细化处理包括如下步骤：

1a)若陶瓷抛光废渣或陶瓷废料以及陶瓷抛光砖配料的细度满足超细设备的进料要求，则直接进行下一步骤，若其细度低于超细设备的进料要求，则先对其进行粗磨，制成粒度符合要求的粉体，所述超细设备的进料要求是指进料粉体的粒度在0.044mm～0.13mm之间；

1b)将上述粉体制成固含量不小于60％的浆料；

1c)使用超细设备对浆料进行研磨粉碎，使得粉体粒度为0.1μm～5μm。

3.根据权利要求2所述的陶瓷抛光废渣或陶瓷废料生产超薄陶瓷抛光砖的方法，其特征在于：在步骤1a)中使用雷蒙磨或高压辊压磨作为粗磨设备，将原料制成粒度为0.044mm～0.13mm的粉体。

4.根据权利要求2所述的陶瓷抛光废渣或陶瓷废料生产超薄陶瓷抛光砖的方法，其特征在于：所述超细设备是有介质超细磨。

5.根据权利要求4所述的陶瓷抛光废渣或陶瓷废料生产超薄陶瓷抛光砖的方法，其特征在于：所述有介质超细磨是搅拌磨或以串联方式排列的旋流磨。

6.根据权利要求1或2所述的陶瓷抛光废渣或陶瓷废料生产超薄陶瓷抛光砖的方法，其特征在于：所述干燥采用的设备是喷雾或气流干燥机。