[发明专利]有机发光二极管结构及其制造方法

说明书

本发明公开一种有机发光二极管结构及其制造方法，其包括阳极层设置于基板上；电洞传输层设置于阳极层上；电洞传输辅助层设置于电洞传输层上，并进行黄光微影制程，电洞传输辅助层对电洞传输层的表面进行保护；至少一发光区块设置于电洞传输辅助层上，电洞传输辅助层电性导通于至少一发光区块与电洞传输层间；电子传输辅助层设置于至少一发光区块上，并进行黄光微影制程，电子传输辅助层对至少一发光区块的表面进行保护；电子传输层设置于电子传输辅助层上，电子传输辅助层电性导通于电子传输层与至少一发光区块间；以及阴极层设置于电子传输层上。本发明于有机发光二极管结构之制造方法中，更增加蒸镀电洞传输辅助层或/及电子传输辅助层的步骤，其有利于使用黄光微影制程进行有机发光二极管结构的制造。

技术领域

本发明涉及一种发光二极管，尤其涉及一种有机发光二极管结构及其制 造方法。

背景技术

随着电子产业的高速发展，电子产品的普及率更是越来越高，如计算机、 平板或手机等等。上述的电子产品已变成人们日常生活的必需品。有机发光 二极管(OLED)为一种高色度、高对比度、宽视角、自发光与可柔性显示等等 优点，其已经被广泛的应用。

当前有机发光二极管的制造方法中，其透过目前产业界最为广用的黄光 微影制程的技术去制作，会造成有机发光二极管的发光效率不佳，其原因在 于制作机发光二极管的材料大多为敏感性材料制成。黄光微影制程中，其使 用的溶剂与蚀刻溶液(或气体)会直接接触到敏感性材料，如此会使制作发 光二极管的敏感性材料发生化学变化，而有可能改变原有材料的特性。

现有技术中，于有机发光二极管的结构层进行黄光微影制程前，将保护 层设置于有机发光二极管的结构层的表面，保护层对有机发光二极管的结构 层的表面进行保护，如此降低黄光微影制程对于结构层表面的影响。其中保 护层的厚薄度会影响对于溶剂与蚀刻溶液(或气体)的阻隔性、导电性以及 透光性的问题，若保护层的厚度太薄，则对于溶剂与蚀刻溶液(或气体)的 阻隔性差，结构层易于受到损害。若保护层的厚度太厚，则影响电洞传输或 /及电子传输的导电性，也同时影响有机发光二极管对外发光的透光性。故， 通过现有技术的黄光微影制程制造出来的有机发光二极管的实际发光效率 不佳。

另外，若使用黄光微影制程之外的技术去制造有机发光二极管，则可能 会造成有机发光二极管的制造过程耗时且步骤繁杂、有机发光二极管的制造 过程不够完善等问题。

发明内容

有鉴于此，本发明所要解决的技术问题为无法通过现有技术解决。现有 技术于制作机发光二极管的材料大多为敏感性材料制成，而黄光微影制程会 使用到的溶剂与蚀刻溶液(或气体)会直接接触敏感性材料，如此可能会对 于发光二极管的敏感性材料产生化学变化，而改变原有敏感性材料的特性， 于现有技术中，有机发光二极管的结构层进行黄光微影制程前，将保护层设 置于有机发光二极管的结构层的表面，保护层对有机发光二极管的结构层的 表面进行保护，如此降低黄光微影制程对于结构层表面的影响﹐但是，保护层会影响有机发光二极管的电洞传输或/及电子传输，而导致有机发光二极 管的发光效率不佳。

为了解决上述问题，本发明提供一种有机发光二极管结构，其包括基板、 阳极层、电洞传输层、电洞传输辅助层、至少一发光区块、电子传输层与阳 极层。阳极层设置于基板上；电洞传输层设置于阳极层上；电洞传输辅助层 设置于电洞传输层上，并进行黄光微影制程，电洞传输辅助层对电洞传输层 的表面进行保护；至少一发光区块设置于电洞传输辅助层，电洞传输辅助层 电性导通于至少一发光区块与电洞传输层间；电子传输层设置于至少一发光 区块；以及阴极层设置于电子传输层。

根据本发明的一实施方式，上述的有机发光二极管结构更包括电子传输 辅助层，电子传输辅助层设置于至少一发光区块与电子传输层间，并进行黄 光微影制程，电子传输辅助层对至少一发光区块的表面进行保护，电子传输 辅助层电性导通于至少一发光区块与电子传输层间。

根据本发明的一实施方式，上述的电子传输辅助层包括有机物、金属、 金属化合物或上述任选至少两种组合。