[发明专利]一种真空蒸镀装置

权利要求书

1.一种真空蒸镀装置，其特征在于，包括：

蒸镀腔体，所述蒸镀腔体的底板上开设有供蒸镀源通过的第一通孔；

驱动机构，所述驱动机构可驱动所述蒸镀源穿过所述第一通孔，并在所述蒸镀腔体内上下移动。

2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述驱动机构包括竖直导轨，用于承载所述蒸镀源的托板，以及用于带动所述托板沿所述竖直导轨上下滑动的驱动件。

3.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述驱动机构还包括竖直滑块，所述竖直滑块的一端可滑动地设于所述竖直导轨上，所述竖直滑块的另一端与所述托板连接，所述驱动件可驱动所述竖直滑块沿所述竖直导轨上下滑动。

4.根据权利要求3所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述驱动件包括丝杠和带动所述丝杠旋转的电机或电缸，所述丝杠与所述竖直导轨平行设置，所述竖直滑块内设有与所述丝杠的外螺纹相配合的内螺纹。

5.根据权利要求4所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述竖直导轨的上端和下端分别连接有上端轴承和下端轴承，所述丝杠的上端与所述上端轴承的内圈固定连接，所述丝杠的下端与所述下端轴承的内圈固定连接。

6.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置，其特征在于，还包括支架，所述蒸镀腔体和所述竖直导轨均设于所述支架上。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的真空蒸镀装置，其特征在于，还包括可轴向伸缩的连接管，所述连接管的顶端与所述第一通孔的边缘相连接，所述连接管的轴向内部用于供所述蒸镀源穿过，所述连接管的底端用于与所述蒸镀源的周向外围相连接。

8.根据权利要求1～6中任一项所述的真空蒸镀装置，其特征在于，还包括用于遮挡所述蒸镀源的蒸镀源口的遮挡机构。

9.根据权利要求8所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述遮挡机构包括磁流体密封件和带动所述磁流体密封件旋转的电机，所述磁流体密封件轴向穿过所述底板，且所述磁流体密封件的顶部横向设有挡片。

10.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀腔体还包括顶板和侧板，所述底板和侧板相互焊接成一个上端开口的腔体，所述顶板与所述腔体的上端开口可拆卸地连接。

11.根据权利要求10所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀腔体还包括顶板安装块和侧板安装块，所述顶板与所述顶板安装块可拆卸地连接，所述侧板与所述侧板安装块可拆卸地连接，所述顶板安装块可通过紧固件与所述侧板安装块连接，从而将所述顶板连接在所述腔体的上端开口。