[发明专利]图案化透明电极制造方法在审
申请号: | 201810653453.2 | 申请日: | 2018-06-22 |
公开(公告)号: | CN108962435A | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 钱娟;林柱英;佘天宇 | 申请(专利权)人: | 无锡众创未来科技应用有限公司 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00;H01B13/30 |
代理公司: | 广州市百拓共享专利代理事务所(特殊普通合伙) 44497 | 代理人: | 卢刚 |
地址: | 214100 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案化透明电极 表面粗糙度 导电墨水 基板 低表面粗糙度 表面修饰 精准对位 透明电极 非凹槽 墨水量 墨水 填充 制造 简易 配合 | ||
1.一种图案化透明电极制造方法,其包括下列步骤:提供图案化基板,该图案化基板上以多个凹槽构成图案;提供图案化模板,该图案化模板具有与该图案形状对应的至少一个图案开口;填入导电墨水于该些凹槽中,将该图案化模板放置于该图案化基板的图案面上并进行对位,导入该导电墨水使该导电墨水透过该至少一个图案开口填入该些凹槽中;以及进行表面平整度修饰处理,利用热压技术或涂布技术施加于该图案面,以降低该导电墨水形成的透明电极的表面粗糙度。
2.如权利要求1所述的图案化透明电极制造方法,其中填入该导电墨水于该些凹槽中的步骤是使用刮刀涂布技术、网版印刷技术或喷墨印刷技术使该导电墨水完全填入该些凹槽中。
3.如权利要求1所述的图案化透明电极制造方法,其中该图案化模板为光罩,填入该导电墨水于该些凹槽时,以刮刀涂布技术或喷墨印刷技术使该导电墨水穿过该光罩的该至少一个图案开口填入该些凹槽中。
4.如权利要求1所述的图案化透明电极制造方法,其中该图案化模板为网版,该网版的该图案开口由多个网格所构成,填入该导电墨水于该些凹槽时,该导电墨水透过该些网格填入该些凹槽中。
5.如权利要求1所述的图案化透明电极制造方法,其中该图案化基板的材质为可挠性基板、玻璃或硅晶圆。
6.如权利要求1所述的图案化透明电极制造方法,其中该导电墨水为金属纳米粒子胶或金属纳米粒子墨水。
7.如权利要求1-6中任一项所述的图案化透明电极制造方法,其中该图案化模板与该图案化基板进行对位时,该图案化基板被真空吸附于真空吸盘上,并且该图案化基板的周围设置有对位装置,以与该图案化模板对位。
8.如权利要求7所述的图案化透明电极制造方法,其中该热压技术为平板热压技术或滚轮热压技术,其热压合于填充有该导电墨水的该图案化基板。
9.如权利要求8所述的图案化透明电极制造方法,其中该平板热压技术将填充有该导电墨水的该图案化基板放置于热压机的上平板及下平板之间,该滚轮热压技术将填充有该导电墨水的该图案化基板放置于热压滚轮机的上滚轮及下滚轮之间。
10.如权利要求7所述的图案化透明电极制造方法,其中该涂布技术为旋转涂布技术、线棒涂布技术或狭缝涂布技术,其使用具有导电性及透光性的高分子材料涂布于该图案面上。
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