[发明专利]一种并联微LED阵列及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201810658226.9 申请日: 2018-06-25
公开(公告)号: CN108598104A 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 王君君;陈志涛;王巧;刘宁炀;刘久澄;张康 申请(专利权)人: 广东省半导体产业技术研究院
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/62;H01L33/00
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 杨志廷
地址: 510000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 并联 电极 外延层 基板 制作 寄生电容 制作工艺 连线
【说明书】:

发明实施例提出一种并联微LED阵列及其制作方法,涉及LED技术领域。该并联微LED阵列包括外延层、多个电极以及基板,基板、多个电极以及外延层逐层连接,多个电极包括多个P电极与多个N电极,外延层包括P型层与N型层,多个P电极共用P型层,多个N电极共N型层,以形成多个并联的LED。本发明实施例提供的并联微LED阵列及其制作方法具有阵列之间的连线简单、制作工艺更加简单且寄生电容更小优点。

技术领域

本发明涉及LED技术领域,具体而言,涉及一种并联微LED阵列及其制作方法。

背景技术

目前,随着LED照明系统的普及,利用LED作为光源的可见光通信技术随着LED的发展而高速发展。然而制约可见光通信的瓶颈是LED有限的调制带宽。相比传统大尺寸LED芯片,以微LED作为光源,具有电容小,响应速度快等优点,能够大幅度提高可见光通信调制宽带。另外,微LED的光源尺寸小,能够多通道并行通讯,更有利于可见光通信系统的微型化、集成化和便携化。新型微LED器件在可见光通信系统中的应用有巨大的潜力,成为可见光通信研究的一个重要方面。

影响LED调制带宽的主要因素有:驱动电流大小、发光波长、器件的RC时间常数以及载流子复合寿命。近年来对微LED技术提高可见光通信速率的研究主要关注驱动电流、发光波长、芯片尺寸等对调制带宽的影响,且这些只针对单个微LED而言。多颗微LED组成的阵列具有更高的发光效率,其驱动模式主要是主动寻址微LED阵列,另有少量报道的线性级联阵列,但不足之处是连线庞杂,制备工艺复杂,寄生电阻电容大。

有鉴于此,如何改善上述问题,是本领域技术人员关注的重点。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的在于提供一种并联微LED阵列,以改善现有技术中多颗微LED组成的阵列连线庞杂,制备工艺复杂,寄生电阻电容大的问题。

本发明的另一目的在于提供一种并联微LED阵列制作方法,以改善现有技术中多颗微LED组成的阵列连线庞杂,制备工艺复杂,寄生电阻电容大的问题。

为了实现上述目的,本发明实施例采用的技术方案如下:

第一方面,本发明实施例提供了一种并联微LED阵列,所述并联微LED阵列包括外延层、多个电极以及基板,所述基板、所述多个电极以及所述外延层逐层连接,所述多个电极包括多个P电极与多个N电极,所述外延层包括P型层与N型层,所述多个P电极共用P型层,所述多个N电极共N型层,以形成多个并联的LED。

第二方面,本发明实施例还提供了一种并联微LED阵列制作方法,通过在衬底上生长外延层,然后利用掩膜在所述外延层上刻蚀出微发光区域;并依据所述微发光区域生长共用P型层的多个P电极;最后制作共用N型层的多个N电极,以形成多个并联的LED。

第三方面,本发明实施例还提供了一种并联微LED阵列制作方法,通过在衬底上生长外延层,然后利用掩膜在所述外延层上刻蚀去除部分区域的P型层,以露出P型层;并同时生长P电极与N电极,再制备金属键合层;最后将所述外延层焊接于基板上。

相对现有技术,本发明具有以下有益效果:

本发明提供的了一种并联微LED阵列及其制作方法,该并联微LED阵列包括外延层、多个电极以及基板,基板、多个电极以及外延层逐层连接,多个电极包括多个P电极与多个N电极,外延层包括P型层与N型层,多个P电极共用P型层,多个N电极共N型层,以形成多个并联的LED。由于本发明提供的并联微LED阵列的多个P电极共用P型层,多个N电极共N型层,所以阵列之间的连线简单,并且无需制作多个LED,制作工艺更加简单,并且寄生电容更小。

为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下。

附图说明

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