[发明专利]产酸剂和含有其的光刻胶

权利要求书

1.含有下列式I基团的光致产酸剂∶

其中∶

波浪线表示连接所描述部分与光致产酸剂的剩余部分的共价键；

R²、R³、R⁴和R⁵各自独立地是氢或非氢取代基，R²和R³中的至少一个是非氢取代基；

R²和R³一起形成环；

R⁴和R⁵可以任选一起形成环；

R⁴和/或R⁵可以任选与共价键一起形成环；以及

n是0或1，

其中光致产酸剂是鎓类化合物。

2.权利要求1的光致产酸剂，其中，该光致产酸剂含有阳离子组份，这种阳离子组份包含氧代-1,3-二氧戊环部分和/或氧代-1,3-二噁烷部分。

3.权利要求1至2的任一项的光致产酸剂，其中，该光致产酸剂包含下列式(IV)的基团∶

其中∶

x是1、2或3；

a是1至12的正整数；

R²和R³各自独立地是氢、任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的脂环基、任选取代的杂脂环基、任选取代的碳环芳基或任选取代的杂芳基；R²和R³可以一起形成芳烃的或非芳烃的环基团，R²和R³中的至少一个是非氢取代基；

Y是共价键或连接基；

P是任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的脂环基、任选取代的杂脂环基、任选取代的碳环芳基、任选取代的杂芳基；

每个R¹独立地是任选取代的烷基、任选取代的杂烷基、任选取代的脂环基、任选取代的杂脂环基、任选取代的碳环芳基或任选取代的杂芳基；

当x是1时，两个R¹基团和相邻的硫原子可以任选一起形成环；

Z是反阴离子。

4.权利要求1至2的任一项的光致产酸剂，其中，光致产酸剂包含氧代-1,3-二噁烷部分。

5.权利要求1至4的任一项的光致产酸剂，其中，该光致产酸剂是树脂的组份。

6.光刻胶组合物，其包含：1)树脂，和2)一或多种权利要求1至5的任一项的光致产酸剂。

7.提供光刻胶立体像的方法，包括∶

a)在基底上施加权利要求6的光刻胶组合物的涂层；和

b)使光刻胶组合物层对活化辐射曝光，并使曝光的光刻胶组合物涂层显影。

8.权利要求7的方法，其中活化辐射是EUV或电子束辐射。