[发明专利]一种显影装置、曝光显影设备及显影方法有效
申请号: | 201810662507.1 | 申请日: | 2018-06-25 |
公开(公告)号: | CN108776424B | 公开(公告)日: | 2021-08-17 |
发明(设计)人: | 刘宁;闫梁臣;周斌;刘军;程磊磊;李广耀 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显影 装置 曝光 设备 方法 | ||
1.一种显影装置,包括基台和显影液喷嘴,所述基台具有基板放置面,所述显影液喷嘴与所述基板放置面相对设置,其特征在于,还包括与所述基板放置面相对设置的微波发射单元;
所述微波发射单元与所述显影液喷嘴位于同一平面内;
所述微波发射单元的数目为多个,多个所述微波发射单元均与所述基板放置面相对设置,并且多个所述微波发射单元沿垂直于所述基板放置面的方向在所述基板放置面上的投影均匀分布于所述基板放置面上;多个所述微波发射单元的微波发射口均朝向所述基板放置面设置,并且所述显影液喷嘴的数目为多个,沿平行于所述基板放置面的方向,多个所述微波发射单元均与多个所述显影液喷嘴彼此错开设置。
2.根据权利要求1所述的显影装置,其特征在于,所述显影装置还包括角度调节机构,所述角度调节机构用于调节所述微波发射口的朝向;和/或,所述显影装置还包括升降调节机构,所述升降调节机构用于调节所述微波发射单元与所述基板放置面之间的距离。
3.根据权利要求1~2中任一项所述的显影装置,其特征在于,还包括显影液容纳器,所述显影液容纳器具有储液腔,所述显影液喷嘴通过供液管路与所述储液腔相连通,所述供液管路上设有供液泵。
4.根据权利要求3所述的显影装置,其特征在于,所述显影液容纳器具有与所述储液腔相连通的开口,所述显影液容纳器位于所述基台的下方,并且所述开口与所述基台相对,所述显影液喷嘴喷出的显影液可通过所述开口流至所述储液腔内。
5.根据权利要求1~2中任一项所述的显影装置,其特征在于,所述基台为自动传送台,所述自动传送台包括机架、与所述机架可转动连接的多个传送辊以及用于驱动所述传送辊转动的驱动装置,多个所述传送辊沿一水平方向相隔且平行设置,并且多个所述传送辊的上端用于形成所述基板放置面。
6.根据权利要求5所述的显影装置,其特征在于,每个所述传送辊均包括转轴以及固定套设于所述转轴上、并且沿所述转轴的延伸方向相隔设置的多个滚轮,每个所述传送辊的转轴均沿所述水平方向相隔且平行设置,所述传送辊的上端为所述传送辊的多个所述滚轮的上端。
7.一种曝光显影设备,其特征在于,包括权利要求1~6中任一项所述的显影装置。
8.一种显影方法,其特征在于,包括以下步骤:
对形成有抗蚀剂膜并曝光后的基板表面供给显影液;
向所述基板表面发射微波;
所述微波发射单元与所述显影液喷嘴位于同一平面内;
所述微波发射单元的数目为多个,多个所述微波发射单元均与所述基板放置面相对设置,并且多个所述微波发射单元沿垂直于所述基板放置面的方向在所述基板放置面上的投影均匀分布于所述基板放置面上;多个所述微波发射单元的微波发射口均朝向所述基板放置面设置,并且沿平行于所述基板放置面的方向,多个所述微波发射单元均与所述显影液喷嘴错开设置。
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