[发明专利]一种蒸发源位置的可调节结构及利用其进行镀膜的方法在审
| 申请号： | 201810668967.5 | 申请日： | 2018-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN108517495A | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 龙汝磊;范滨;张果立 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸发源位置 基准调节 坩埚 转动驱动装置 可调节结构 真空镀膜 电子枪 镀膜 室内 真空镀膜技术 拆装方便 镀膜材料 镀膜产品 镀膜效果 镀膜效率 灵活调整 蒸发位置 转动调整 产能 点位 蒸镀 驱动 | ||
1.一种蒸发源位置的可调节结构，包括设置在真空镀膜室内的坩埚台和电子枪，其中所述坩埚台用于承载盛放有镀膜材料的坩埚，所述电子枪用于对所述坩埚内盛放的镀膜材料进行蒸发，其特征在于：所述坩埚台和所述电子枪安装在一基准调节座上，所述基准调节座上设置有转动驱动装置，所述转动驱动装置通过驱动所述基准调节座转动调整所述坩埚台和所述电子枪在所述真空镀膜室内的蒸发位置。
2.根据权利要求1所述的一种蒸发源位置的可调节结构，其特征在于：所述坩埚台和所述电子枪之间设置有可开合的咬合机构以使所述坩埚台和所述电子枪随所述基准调节座共同转动或使所述坩埚台和所述电子枪分别在所述基准调节座上独立转动。
3.根据权利要求1或2所述的一种蒸发源位置的可调节结构，其特征在于：所述坩埚台为圆环形坩埚台，在所述圆环形坩埚台上设有若干用于承载所述坩埚的坩埚点位，所述转动驱动装置驱动所述圆环形坩埚台在所述基准调节座上转动实现所述坩埚点位在所述电子枪位置上的切换。
4.根据权利要求1或2所述的一种蒸发源位置的可调节结构，其特征在于：所述坩埚台为圆环形坩埚台，在所述圆环形坩埚台上设有若干用于承载所述坩埚的坩埚点位，所述转动驱动装置驱动所述电子枪在所述基准调节座上转动实现所述坩埚点位在所述电子枪位置上的切换。
5.一种利用权利要求1-4所述的蒸发源位置的可调节结构进行镀膜的方法，其特征在于：利用电子枪对坩埚台上的一坩埚点位内所承载的坩埚内的镀膜材料进行蒸发；待该坩埚内的镀膜材料镀膜结束后，所述坩埚台在转动驱动装置的驱动下在基准调节座上转动直至下一坩埚点位正对所述电子枪，所述电子枪对下一坩埚点位内的坩埚所盛放的镀膜材料进行蒸发。
6.一种利用权利要求1-4所述的蒸发源位置的可调节结构进行镀膜的方法，其特征在于：通过转动驱动装置驱动基准调节座转动调整坩埚台和电子枪在真空镀膜室内的蒸发位置。
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