[发明专利]一种蒸发源位置的可调节结构及利用其进行镀膜的方法

说明书

本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种蒸发源位置的可调节结构及利用其进行镀膜的方法，其特征在于：所述坩埚台和所述电子枪安装在一基准调节座上，所述基准调节座上设置有转动驱动装置，所述转动驱动装置通过驱动所述基准调节座转动调整所述坩埚台和所述电子枪在所述真空镀膜室内的蒸发位置。本发明的优点是：实现真空镀膜室内蒸发源位置的调整，可根据镀膜产品灵活调整工艺，实现更好的镀膜效果；可实现坩埚点位的切换，尤其便于多种镀膜材料的逐一蒸镀，提高镀膜效率，扩大产能；结构简单合理，拆装方便，适于推广。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种蒸发源位置的可调节结构及利用其进行镀膜的方法。

背景技术

目前，在蒸发镀膜工艺中，一般采用电子枪对坩埚内盛放的镀膜材料进行蒸发，使镀膜材料蒸发并在工件表面凝结成膜。但目前，电子枪在真空镀膜室内的位置往往固定不变，这样一来，不利于灵活调整工艺，无法实现更好的镀膜效果。

发明内容

本发明的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种蒸发源位置的可调节结构及利用其进行镀膜的方法，通过转动驱动装置驱动坩埚台和电子枪随基准调节座共同转动实现蒸发源位置的调整；同时还可使坩埚台和电子枪分别在基准调节座上独立转动，实现坩埚点位的切换，从而提高镀膜效果，方便工艺调整。

本发明目的实现由以下技术方案完成：

一种蒸发源位置的可调节结构，包括设置在真空镀膜室内的坩埚台和电子枪，其中所述坩埚台用于承载盛放有镀膜材料的坩埚，所述电子枪用于对所述坩埚内盛放的镀膜材料进行蒸发，其特征在于：所述坩埚台和所述电子枪安装在一基准调节座上，所述基准调节座上设置有转动驱动装置，所述转动驱动装置通过驱动所述基准调节座转动调整所述坩埚台和所述电子枪在所述真空镀膜室内的蒸发位置。

所述坩埚台和所述电子枪之间设置有可开合的咬合机构以使所述坩埚台和所述电子枪随所述基准调节座共同转动或使所述坩埚台和所述电子枪分别在所述基准调节座上独立转动。

所述坩埚台为圆环形坩埚台，在所述圆环形坩埚台上设有若干用于承载所述坩埚的坩埚点位，所述转动驱动装置驱动所述圆环形坩埚台在所述基准调节座上转动实现所述坩埚点位在所述电子枪位置上的切换。

所述坩埚台为圆环形坩埚台，在所述圆环形坩埚台上设有若干用于承载所述坩埚的坩埚点位，所述转动驱动装置驱动所述电子枪在所述基准调节座上转动实现所述坩埚点位在所述电子枪位置上的切换。

一种利用上述蒸发源位置的可调节结构进行镀膜的方法，其特征在于：利用电子枪对坩埚台上的一坩埚点位内所承载的坩埚内的镀膜材料进行蒸发；待该坩埚内的镀膜材料镀膜结束后，所述坩埚台在转动驱动装置的驱动下在基准调节座上转动直至下一坩埚点位正对所述电子枪，所述电子枪对下一坩埚点位内的坩埚所盛放的镀膜材料进行蒸发。

一种利用上述的蒸发源位置的可调节结构进行镀膜的方法，其特征在于：通过转动驱动装置驱动基准调节座转动调整坩埚台和电子枪在真空镀膜室内的蒸发位置。

本发明的优点是：实现真空镀膜室内蒸发源位置的调整，可根据镀膜产品灵活调整工艺，实现更好的镀膜效果；可实现坩埚点位的切换，尤其便于多种镀膜材料的逐一蒸镀，提高镀膜效率，扩大产能；结构简单合理，拆装方便，适于推广。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

图2为本发明中蒸发源位置调整的状态示意图。

具体实施方式

以下结合附图通过实施例对本发明特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：

如图1-2所示，图中标号1-4分别表示为：基准调节座1、坩埚台2、电子枪3、坩埚点位4。