[发明专利]一种手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨

权利要求书

1.一种手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨，其特征在于，其原料按重量份包括：邻烷基酚醛环氧丙烯酸树脂30-45份、酸酐改性丙烯酸羟乙酯10-22份、聚乙烯醇肉桂酸酯3-12份、环氧树脂8-12份、二缩三丙二醇二丙烯酸酯2-9份、2-苯氧基乙基丙烯酸酯1-3份、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮1-4份、二氧化硅2-11份、纳米二氧化钛1-3份、超细硫酸钡1-3份、聚四氟乙烯微粉2-7份、阻聚剂0.01-0.05份、助剂0.2-0.8份、溶剂3-15份；

其中，所述二氧化硅为改性二氧化硅；所述改性二氧化硅按照以下工艺进行制备：将二苯甲烷二异氰酸酯、2-羟基-2-甲基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-1-丙酮、二月桂酸二丁基锡与丙酮混合均匀，在50-56℃下搅拌反应35-80min，加入2,2,3,3,4,4-六氟环-1,5-戊二醇，在45-55℃下反应1-2h，反应结束后冷却至室温，过滤、干燥得到中间物料；将二氧化硅与氯化亚砜混合，在65-78℃下反应3-8h，过滤、洗涤、干燥后加入二甲基甲酰胺中，加入中间物料和2-羟基-硫杂蒽酮搅拌均匀，在氮气的保护下升温至80-120℃，反应5-9h，反应结束后过滤、洗涤、干燥得到所述改性二氧化硅。

2.根据权利要求1所述手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨，其特征在于，所述酸酐改性丙烯酸羟乙酯为六氢苯酐改性丙烯酸羟乙酯、马来酸酐改性丙烯酸羟乙酯按重量比为7-11：3-7的混合物。

3.根据权利要求1或2所述手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨，其特征在于，所述环氧树脂的环氧值为0.38-0.43。

4.根据权利要求1所述手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨，其特征在于，在改性二氧化硅的制备过程中，二苯甲烷二异氰酸酯、2-羟基-2-甲基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-1-丙酮、2,2,3,3,4,4-六氟环-1,5-戊二醇的摩尔比为1：1-1.12：1-1.1。

5.根据权利要求1或2所述手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨，其特征在于，所述纳米二氧化钛的平均粒径为35-55nm；所述超细硫酸钡的平均粒径为50-85nm；所述聚四氟乙烯微粉的平均粒径为350-550nm。

6.根据权利要求1或2所述手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨，其特征在于，所述助剂为分散剂、润湿剂、消泡剂中的一种或者多种的混合物。

7.根据权利要求1或2所述手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨，其特征在于，所述溶剂为乙二醇甲醚、乙二醇乙醚醋酸酯、环己酮、二甲苯、甲苯、丙酮中的一种或者多种的混合物。