[发明专利]一种手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨有效
申请号: | 201810677785.4 | 申请日: | 2018-06-27 |
公开(公告)号: | CN108864818B | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 吴建勇;向中华 | 申请(专利权)人: | 安徽金龙浩光电科技有限公司 |
主分类号: | C09D11/107 | 分类号: | C09D11/107;C09D11/102;C09D11/106;C09D11/03 |
代理公司: | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 | 代理人: | 傅磊 |
地址: | 233000 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 手机 logo 蚀刻 二氧化硅 保护 油墨 | ||
本发明公开了一种手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨,其原料按重量份包括:邻烷基酚醛环氧丙烯酸树脂30‑45份、酸酐改性丙烯酸羟乙酯10‑22份、聚乙烯醇肉桂酸酯3‑12份、环氧树脂8‑12份、二缩三丙二醇二丙烯酸酯2‑9份、2‑苯氧基乙基丙烯酸酯1‑3份、2,2‑二甲氧基‑2‑苯基苯乙酮1‑4份、二氧化硅2‑11份、纳米二氧化钛1‑3份、超细硫酸钡1‑3份、聚四氟乙烯微粉2‑7份、阻聚剂0.01‑0.05份、助剂0.2‑0.8份、溶剂3‑15份。本发明提出的手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨,与基材的附着力高,耐酸不耐碱,脱膜快,保护制作的3D LOGO线条清晰,分辨率高。
技术领域
本发明涉及油墨技术领域,尤其涉及一种手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨。
背景技术
在手机玻璃后盖3D LOGO蚀刻的过程中,需要一种具有保护作用的保护油墨来保护LOGO表面,虽然现有技术中已经公开了多种保护油墨,但是其存在附着力差、耐酸性欠佳、碱溶性不是很好、脱膜慢的缺点,往往使所得LOGO线条不清晰,限制了其应用。
发明内容
基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了一种手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨,其与基材的附着力高,耐酸不耐碱,脱膜快,用其保护制作的3D LOGO线条清晰,分辨率高。
本发明提出的一种手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨,其原料按重量份包括:邻烷基酚醛环氧丙烯酸树脂30-45份、酸酐改性丙烯酸羟乙酯10-22份、聚乙烯醇肉桂酸酯3-12份、环氧树脂8-12份、二缩三丙二醇二丙烯酸酯2-9份、2-苯氧基乙基丙烯酸酯1-3份、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮1-4份、二氧化硅2-11份、纳米二氧化钛1-3份、超细硫酸钡1-3份、聚四氟乙烯微粉2-7份、阻聚剂0.01-0.05份、助剂0.2-0.8份、溶剂3-15份。
优选地,所述酸酐改性丙烯酸羟乙酯为六氢苯酐改性丙烯酸羟乙酯、马来酸酐改性丙烯酸羟乙酯按重量比为7-11:3-7的混合物。
优选地,所述环氧树脂的环氧值为0.38-0.43。
优选地,所述二氧化硅为改性二氧化硅;所述改性二氧化硅按照以下工艺进行制备:将二苯甲烷二异氰酸酯、2-羟基-2-甲基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-1-丙酮、二月桂酸二丁基锡与丙酮混合均匀,在50-56℃下搅拌反应35-80min,加入2,2,3,3,4,4-六氟环-1,5-戊二醇,在45-55℃下反应1-2h,反应结束后冷却至室温,过滤、干燥得到中间物料;将二氧化硅与氯化亚砜混合,在65-78℃下反应3-8h,过滤、洗涤、干燥后加入二甲基甲酰胺中,加入中间物料和2-羟基-硫杂蒽酮搅拌均匀,在氮气的保护下升温至80-120℃,反应5-9h,反应结束后过滤、洗涤、干燥得到所述改性二氧化硅。
优选地,在改性二氧化硅的制备过程中,二苯甲烷二异氰酸酯、2-羟基-2-甲基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-1-丙酮、2,2,3,3,4,4-六氟环-1,5-戊二醇的摩尔比为1:1-1.12:1-1.1。
优选地,在改性二氧化硅的制备过程中,碳纳米管、氯化亚砜、中间物料、2-羟基-硫杂蒽酮的重量比为20-35:10-25:60-145:20-47。
优选地,所述纳米二氧化钛的平均粒径为35-55nm;所述超细硫酸钡的平均粒径为50-85nm;所述聚四氟乙烯微粉的平均粒径为350-550nm。
优选地,所述助剂为分散剂、润湿剂、消泡剂中的一种或者多种的混合物。
优选地,所述溶剂为乙二醇甲醚、乙二醇乙醚醋酸酯、环己酮、二甲苯、甲苯、丙酮中的一种或者多种的混合物。
本发明所述手机3D LOGO蚀刻用含二氧化硅的保护油墨可以按照常规的保护油墨制备工艺制备而成。
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