[发明专利]一种平板杂质快检装置以及平板杂质的检测方法

权利要求书

1.一种平板杂质快检装置，其特征在于，包括基板承载台、光学探头、平行光发生器、干涉透光板以及处理器，所述基板承载台用于承载待测基板；

所述平行光发生器设置在所述基板承载台的上方，用于生成平行光并将所述平行光照射至所述待测基板；

所述干涉透光板设置在所述基板承载台与所述平行光发生器之间并能够与所述待测基板呈夹角设置，用于透过所述平行光并生成干涉条纹；

所述光学探头设置在所述干涉透光板的上方并与所述处理器电连接，用于采集所述干涉条纹的图像信息并传递至所述处理器；

所述处理器用于依据所述图像信息生成杂质位置数据和杂质面积数据。

2.根据权利要求1所述的平板杂质快检装置，其特征在于，所述基板承载台上设置有运动调节机构，所述干涉透光板与所述运动调节机构连接，所述运动调节机构用于带动所述干涉透光板相对所述基板承载台运动，以使所述干涉透光板与所述待测基板呈夹角设置。

3.根据权利要求2所述的平板杂质快检装置，其特征在于，所述运动调节机构包括左调节组件和右调节组件，所述右调节组件与所述干涉透光板的一端连接，用于带动所述干涉透光板的一端相对所述基板承载台运动，以使所述干涉透光板的一端与所述待测基板相抵持；所述左调节组件与所述干涉透光板的另一端连接，用于带动所述干涉透光板的另一端相对所述基板承载台运动，以使所述干涉透光板的另一端与所述待测基板间隔设置。

4.根据权利要求1所述的平板杂质快检装置，其特征在于，所述基板承载台上设置有承载支架和限位挡架，且所述限位挡架环绕所述承载支架设置并与所述承载支架共同围成一装夹位，用于容置所述待测基板。

5.根据权利要求1所述的平板杂质快检装置，其特征在于，所述处理器包括位置检测单元、面积检测单元、分析单元和存储单元，所述位置检测单元和所述面积检测单元均与所述分析单元电连接，所述分析单元与所述存储单元电连接，所述位置检测单元用于检测所述图像信息中凹凸点的位置并生成凹凸点位置信息，所述面积检测单元用于检测所述图像信息中凹凸点的长度并生成凹凸点长度信息，所述分析单元用于依据所述凹凸点位置信息生成所述杂质位置数据，所述分析单元还用于依据所述凹凸点长度信息生成所述杂质面积数据，所述存储单元用于存储所述杂质位置数据和所述杂质面积数据。

6.一种平板杂质的检测方法，通过平板杂质快检装置进行检测，所述平板杂质快检装置包括基板承载台、光学探头、平行光发生器、干涉透光板以及处理器，所述干涉透光板与所述基板承载台呈夹角设置，所述光学探头设置在所述干涉透光板的上方，所述平行光发生器设置在所述基板承载台和所述干涉透光板的上方，所述处理器与所述光学探头电连接，其特征在于，所述平板杂质的检测方法包括以下步骤：

将待测基板放置在基板承载台上；

移动所述干涉透光板，以使所述干涉透光板与所述待测基板呈夹角设置；

通过所述平行光发生器生成平行光，将所述平行光照射在所述待测基板上，以使所述干涉透光板上生成干涉条纹；

通过所述光学探头采集所述干涉条纹的图像信息并传递至所述处理器；

所述处理器依据所述图像信息生成杂质位置数据和杂质面积数据。

7.根据权利要求6所述的平板杂质的检测方法，其特征在于，所述基板承载台上设置有运动调节机构，所述干涉透光板与所述运动调节机构连接，所述移动所述干涉透光板，以使所述干涉透光板与所述待测基板呈夹角设置的步骤，具体包括；

通过所述运动调节机构带动所述干涉透光板相对所述基板承载台运动，以使所述干涉透光板与所述待测基板呈夹角设置。