[发明专利]一种导光板生产加工工艺及其涂布曝光设备

说明书

本发明公开一种导光板生产加工工艺及其涂布曝光设备，该设备包括转运台、涂布机、曝光机；所述涂布机位于曝光机一侧，转运台依次穿过涂布机、曝光机，曝光机顶部设置有紫外光源发生器；曝光机中间设置有曝光空腔，曝光空腔内设置有旋转曝光器，旋转曝光器通过光源入射器连接到紫外光源发生器；所述转运台下表面安装在第一底座横梁、第二底座横梁，第一底座横梁设置在涂布机下方的涂布防震底座上；第二底座横梁设置在曝光机下方的曝光防震底座上。本发明具有不需要曝光用掩模板、加工速度快、加工效率高、加工尺寸大、加工兼容性强的特点。

技术领域

本发明涉及一种导光板生产加工工艺及其涂布曝光设备，尤其是一种具有不需要曝光用掩模板、加工速度快、加工效率高、加工尺寸大、加工兼容性强的导光板生产加工工艺及其涂布曝光设备。

背景技术

导光板网点光刻加工方法包括：镭射网点加工、油墨网点加工、热压网点加工，油墨网点加工将油墨涂布在导光板加工面上，再通过曝光机对导光板加工面上的油墨进行曝光。

导光板网点光刻加工需要用到涂布、曝光分属于两个工艺和设备，加工工段长；加工中容易出现不确定因素，不良率也很高，加工时间长；之前的涂布曝光设备分为面曝光和单点直线曝光，面曝光需要掩模板，掩模板需要经过多次加工才能成型，所以掩模板制作成本高，制作时间长；单点直线曝光机，无需掩模板，但加工速度慢，且加工面积小，不能运用到大尺寸曝光。

现有面曝光机一般采用下曝光，光从下往上经过掩模板然后到导光板下方的涂布面，涂布面曝光区域固化成需要的网点微结构，网点微结构的图形是通过掩模板上的图形转写过来了的，而掩模板及网点微结构的制作成本都很高，导光板尺寸越大，掩模板制作费用，及网点加工费用越高。掩模板都是用光学玻璃加光学胶涂布层为原材，目前大多从国外进口，所以原材来料周期也比较长。面曝光如采用上曝光相对下曝光难度更高，上曝光掩模板在涂布层的上面，要保证涂布层和掩模板之间的间距，涂布层不能挨到掩模板，并且间距不能过大，间距过大曝光时图形精度不高。上曝光方式，掩模板因在曝光过程中有溶剂挥发，所以掩模板很容易被污染，掩模板的清洁次数增加，掩模板报废率高。单点曝光机用通过镜头聚光根据所绘制的图形通过点线曝光加工图形，这种曝光方式不需要掩模板，也可以进行上曝光，但是这种方式主要用在小尺寸，一般在10寸以下；因这种曝光因是单点线性加工，加工速度很慢，所以这种曝光机尺寸局限和加工速度都是受限制的。

另外，在背光模组生产领域中，TFT玻璃加工和CF彩色滤光片加工都需要一种高效、大尺寸曝光机。

发明内容

本发明的目的在于提供一种具有不需要曝光用掩模板、加工速度快、加工效率高、加工尺寸大、加工兼容性强的导光板生产加工工艺及其涂布曝光设备。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

一种导光板生产加工工艺，包括以下步骤：

步骤一、自动上料：将初步裁剪好的基板放置在栈板上，栈板上叠层放置多个基板；自动抓取机械手将栈板上的基板抓取后放置到传动履带上；

步骤二、撕膜：传动履带上的基板经过自动撕膜机时，自动撕膜机撕掉基板上的保护膜；随后基板随传送履带继续向后工艺传送；

步骤三、清洁：基板随传送履带经过自动清洗机下方时，自动清洗机往基板上添加清洁液，清洁液冲洗基板表面的油性污渍和灰尘；

步骤四、烘干：基板随传送履带从自动清洗机到烘干机下方；烘干机向基板吹出高压热风，高压热风经烘干机下表面的狭窄出风口后，形成热风刀；热风刀将基板表面残留的清洗液和灰尘吹扫干净；

步骤五、涂布与曝光：基板在传送履带的带动下，基板传送进入涂布曝光设备，涂布曝光设备在基板上刮涂均匀的紫外油墨，紫外油墨经旋转曝光后，在旋转照射下的紫光下，进行区域曝光；