[发明专利]一种含铟涂层阻隔有害光线的玻璃膜层及其制造方法

说明书

本发明公开了一种含铟涂层阻隔有害光线的玻璃膜层及其制造方法，其结构依次为：该玻璃的膜层结构依次为玻璃、基层电介质组合层、含铟涂层、第一阻挡层、上层电介质组合层、顶层电介质组合层；其中，第一阻挡层膜层材质为吸收性大于含铟涂层的材料。采用独特的膜层结构、新工艺、新方法，使该种含铟涂层阻隔有害光线的玻璃具有低反、高透、颜色中性、低辐射率、高耐热性、可阻隔对人体有害的电子辐射和紫外线、可夹层及单片使用的优点，能在大于700℃高温下进行钢化、热弯和弯钢化等强化处理而获得更低面电阻，可做到面电阻≤16欧姆。

技术领域

本发明涉及特种玻璃领域，尤其涉及一种含铟涂层阻隔有害光线的玻璃膜层及其制造方法。

背景技术

传统的低辐射玻璃，由于加工及使用过程中Ag层容易被氧化等原因，导致低辐射玻璃无法进行后续的夹层即是涂层不可夹在两片玻璃之间，不可单片使用即是膜面直接长期暴露在空气中，不能被钢化，只能先钢化再镀膜，还必须合中空，膜层不可以暴露空气中使用，这种方式大大妨碍了它的应用。

发明内容

本发明的目的在于提供一种含铟涂层阻隔有害光线的玻璃膜层实现先镀膜后钢化，以及提供一种先镀膜后钢化的含铟涂层阻隔有害光线的玻璃制造方法。

一种含铟涂层阻隔有害光线的玻璃膜层，该玻璃的膜层结构依次为玻璃、基层电介质组合层、含铟涂层、第一阻挡层、上层电介质组合层、顶层电介质组合层；其中，第一阻挡层膜层材质为吸收性大于含铟涂层的材料。采用独特的膜层结构，使该种含铟涂层阻隔有害光线的玻璃具有两面低反射、高透、颜色中性、低辐射率、高耐热性、可阻隔对人体有害的电子辐射和紫外线、可夹层及单片使用的优点，能在大于700℃高温下进行钢化、热弯和弯钢化等强化处理而获得更低面电阻，可做到面电阻≤16欧姆。

优选的，所述含铟涂层由包含掺Sn的In₂O₃构成。

优选的，所述含铟涂层由包含掺Sn的In₂O₃构成比例如下表所示：

优选的，所述含铟涂层材料掺Sn的In₂O₃的In₂O₃杂质含量如下表所示：

优选的，所述基层电介质组合层和上层电介质组合层均由包含SiBO_xN_y的氮氧化物构成，基层电介质组合层包括第一基层电介质组合层和第二基层电介质组合层，上层电介质组合层包括第一上层电介质组合层和第二上层电介质组合层。

优选的，所述上层电介质组合层的膜厚均匀性偏差≤1％，氧氮O:N＝15:1。

优选的，所述第一阻挡层由包含NiCr、NiV、Cr、NiZr和TiZr的不完全氧化物中的至少一种构成。

优选的，所述顶层电介质组合层由包含ZrTi或Zr的氧化物构成。

一种含铟涂层阻隔有害光线的玻璃膜层的制造方法，该方法包括依次沉积各膜层的步骤，具体如下：

S1、清洗玻璃，干燥后置于磁控溅射区；

S2、中频电源加旋转阴极溅射沉积第一基层电介质组合层；

S3、中频电源加旋转阴极溅射沉积第二基层电介质组合层；

S4、双极加脉冲电源溅射沉积含铟涂层；

S5、双极加脉冲电源溅射沉积第一阻挡层；

S6、中频电源加旋转阴极溅射沉积第一上层电介质组合层；

S7、中频电源加旋转阴极溅射沉积第二上层电介质组合层；