[发明专利]偏振片的制作方法及偏振片

说明书

本发明提供一种偏振片的制作方法以得到一种偏振片。所述偏振片的制作方法利用多个平行间隔设置的光刻胶柱使得所述嵌段聚合物自然产生微观相分离，并形成间隔交替设置的第一相区及第二相区，再通过去除第二相区及所述光刻胶柱，从而使得所述基板上仅留下间隔平行设置的第一相区；再将金属材料沉积于所述第一相区及未被所述第一相区覆盖的基板，最后去除所述第一相区及沉积于所述第一相区上的金属材料，只留下位于所述基板上的金属材料，从而得到金属线栅。该方法操作简单，并且，能够一次性制作得到任意大小的金属线栅偏振片。

技术领域

本发明涉及一种光学技术领域，尤其涉及一种偏振片的制作方法及偏振片。

背景技术

现有金属线栅偏振片的制作主要为纳米压印技术。纳米压印技术是指利用通过光刻胶与激光技术搭配作用，形成金属线栅。具体的，首先在基板上制作金属膜层，然后在金属膜层上方涂布光刻胶，将预先通过激光镭射制作好的模具压合在光刻胶，再将模具与光刻胶脱离，残留的光刻胶利用激光或者其他方式去除部分光刻胶，得到具有栅状图案的光刻胶膜层。最后在光刻胶膜层上及未被光刻胶膜层覆盖的基板上沉积金属膜层，再去除光刻胶并带走沉积于光刻胶膜层上的金属膜层，从而在基板上形成金属线栅结构。但是，该种方法制程较为复杂。并且，由于预先制得的模具尺寸一般较小，需要多次工艺才能实现大面积的金属线栅制作，使得金属线栅偏振片的制作更加复杂，极大的限制了其应用。

发明内容

本发明提供一种制作方式简单的偏振片的制作方法及偏振片。

所述偏振片的制作方法包括步骤：

提供一基板，在所述基板上形成光刻胶层；所述光刻胶层包括多个平行间隔设置的光刻胶柱；

在所述光刻胶层上形成嵌段共聚物层，所述嵌段共聚物层的组分包括第一聚合物链段及第二聚合物链段，所述第一聚合物链段与第二聚合物链段聚合在一起得到嵌段共聚物；所述嵌段共聚物层产生微观相分离，形成间隔交替设置的第一相区与第二相区，所述第一相区与所述第二相区的排布方向与所述光刻胶柱的排布方向相同，且所述第一相区与所述第二相区的延伸方向相同；所述光刻胶对所述第一聚合物链段的润湿性与所述光刻胶对所述第二聚合物链段的润湿性不同，所述第一相区或所述第二相区与所述光刻胶柱贴合；所述第一相区的组成材料为所述第一聚合物链段，所述第二相区的组成材料为所述第二聚合物链端；

对分相后的所述嵌段共聚物层进行烘烤；

对所述嵌段共聚物层进行离子刻蚀，刻蚀去除所述第二相区，并保留所述第一相区；

将所述光刻胶柱从所述基板上剥离；

在所述基板上沉积金属材料，所述金属材料覆盖所述第一相区及未被所述相区覆盖的基板；

再一次对所述嵌段共聚物层进行离子刻蚀，刻蚀去除所述第一相区，同时除去所述第一相区上的金属材料，以得到金属层，所述金属层包括多条平行间隔设置的金属线栅。

其中，所述离子刻蚀对所述第二相区的刻蚀速度大于所述第一相区的刻蚀速度，使得刻蚀去除所述第二相区时，所述第一相区仍保留下来。

其中，所述嵌段共聚物为有规嵌段共聚物。

其中，所述第一聚合物链段为苯乙烯，所述第二聚合物链段为二甲基硅氧烷；或者，所述第一聚合物链段为乳酸，所述第二聚合物链段为二甲基硅氧烷；或者，所述第一聚合物链段为苯乙烯，所述第二聚合物链段为甲基丙烯酸甲酯；或者，所述第一聚合物链段为苯乙烯，所述第二聚合物链段为环氧乙烷；或者，所述第一聚合物链段为二甲基硅氧烷，所述第二聚合物为甲基丙烯酸甲酯；或者，所述第一聚合物链段为聚苯乙烯，所述第二聚合物为聚丁二烯。

其中，所述第一聚合物链段为苯乙烯，所述第二聚合物链段为环氧乙烷；所述烘烤温度为100℃-250℃，所述烘烤时间为20min-200min。