[发明专利]一种曝边机

说明书

本申请公开了一种曝边机，该曝边机包括：送风机构和曝光腔室；曝光腔室的顶壁设置有进气口，送风机构用于通过进气口向曝光腔室内输送气体；曝光腔室的底壁设置有第一排放口，以使得曝光腔室内的残留物通过第一排放口排出曝光腔室。通过上述方式，本申请可以为曝光制程提供良好的环境，减少曝光过程产生的PR残留，进而提高显示面板的良率。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种曝边机。

背景技术

在LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低温多晶硅)液晶显示器和AMOLED(Activematrix Organic Light-Emitting Diode，有源矩阵有机发光二极管显示器件)的制造过程中，会经常用到光刻制程。在光刻制程中，基板的四周边缘经常会有光阻(即光刻胶)残留，一般会通过曝边机对基板的四周边缘进行曝光，以将残留的光阻去除。

现有曝边机由于设计原因，内部空间封闭，无气流循环，PM(Prevent Maintain，预防维修)上油及人员进入动作导致内部产生的粉尘停留机台内部，PR(Photoresist，光刻胶或光阻)残留严重超标，良率损失很高，尤其是大颗粒造成的圆形PR残留对中小尺寸的基板AA区有效图形的影响很大。

发明内容

本申请主要解决的技术问题是提供一种曝边机，能够解决现有曝边机容易产生PR残留的问题。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种曝边机，包括：送风机构和曝光腔室；曝光腔室的顶壁设置有进气口，送风机构用于通过进气口向曝光腔室内输送气体；曝光腔室的底壁设置有第一排放口，以使得曝光腔室内的残留物通过第一排放口排出曝光腔室。

本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请的部分实施例中，曝边机利用送风机构，通过曝光腔室顶壁设置的进气口向曝光腔室内部输送气体，利用该气体可以将曝光腔室内部的大颗粒或光阻挥发的油气等容易导致PR残留的残留物输送到曝光腔室底部，并通过底壁设置的第一排放口排出曝光腔室，从而可以为曝光制程提供良好的环境，减少曝光过程产生的PR残留，进而提高显示面板的良率。

附图说明

图1是本申请曝边机第一实施例的结构示意图；

图2是图1的曝边机中送风机构包括过滤装置的结构示意图；

图3是本申请曝边机第二实施例的结构示意图；

图4是本申请曝边机第三实施例的结构示意图；

图5是图4的曝边机中第二排放口包括多个第二通孔的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

如图1所示，本申请曝边机第一实施例中，曝边机10包括：送风机构101和曝光腔室102。曝光腔室102的顶壁设置有进气口1021，送风机构101用于通过进气口1021向曝光腔室102内输送气体。曝光腔室102的底壁设置有第一排放口1022，以使得曝光腔室102内的残留物通过第一排放口1022排出曝光腔室102。

其中，送风机构101输送的气体通常为洁净干燥的气体(Clean Dry Air，CDA)，例如压缩氮气等，具体气体类型可以根据实际需求选择，此处不做具体限定。

其中，该进气口1021和该第一排放口1022的数量可以分别为一个，也可以为多个，具体根据实际需求设置，此处不做具体限定。