[发明专利]高水氧阻隔率量子点膜的制备方法及其用途

权利要求书

1.一种高水氧阻隔率量子点膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，量子点油墨的制备：将红光量子点材料、绿光量子点材料、UV预聚体、UV单体、偶联剂、光扩散剂和流平剂混合，以1000～2000转/分钟的速度搅拌10～60分钟，形成量子点油墨；

步骤2，量子点层的制备：将量子点油墨涂覆在第一基材上，形成量子点层；

步骤3，在量子点层上与第一基材相对的一侧覆盖第二基材，然后对第一基材、量子点层和第二基材进行UV照射，量子点油墨固化后形成成品。

2.根据权利要求1所述的高水氧阻隔率量子点膜的制备方法，其特征在于，所述量子点油墨的制备具体包括以下步骤：

步骤1，称取量子点油墨的原料组分，量子点油墨包括下述重量份数的原料组分：0.4～0.7份的红光量子点材料、1.3～1.6份的绿光量子点材料、82～92份的UV预聚体、4～10份的UV单体、0.5～2.5份的偶联剂、0.5～2.5份的光扩散剂和0.5～2.5份的流平剂；

步骤2，将UV预聚体和UV单体混合，以1000～2000转/分钟的速度搅拌10～60分钟，形成混合体；

步骤3，将红光量子点材料加入到步骤2中形成的混合体中，以1000～2000转/分钟的速度搅拌10～60分钟；

步骤4，将绿色量子点材料加入到步骤3中形成的混合体中，以1000～2000转/分钟的速度搅拌10～60分钟；

步骤5，将偶联剂、光扩散剂和流平剂分别加入到步骤4中形成的混合体中，以1000～2000转/分钟的速度搅拌10～60分钟，形成量子点油墨。

3.根据权利要求1所述的高水氧阻隔率量子点膜的制备方法，其特征在于，所述量子点层的制备包括：采用Slot-die涂布的方式将量子点油墨均匀分布在所述第一基材上，形成量子点层。

4.根据权利要求1所述的高水氧阻隔率量子点膜的制备方法，其特征在于，所述量子点层的制备包括：采用凹版印刷的方式将量子点油墨均匀分布在所述第一基材上，形成量子点层。

5.根据权利要求1所述的高水氧阻隔率量子点膜的制备方法，其特征在于，所述UV预聚体为丙烯酸酯预聚体、聚氨酯丙烯酸酯预聚体和环氧丙烯酸酯预聚体中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的高水氧阻隔率量子点膜的制备方法，其特征在于，所述偶联剂为硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂、铝酸酯偶联剂或稀土偶联剂。

7.根据权利要求2所述的高水氧阻隔率量子点膜的制备方法，其特征在于，所述红色量子点材料与所述绿色量子点材料的用量比值在1:2～1:4之间。

8.根据权利要求1所述的高水氧阻隔率量子点膜的制备方法，其特征在于，所述量子点层的厚度在20um～200um之间。

9.根据权利要求1所述的高水氧阻隔率量子点膜的制备方法，其特征在于，所述第一基材和/或第二基材为聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸酯、光学材料COP或聚丙烯。

10.权利要求1至9所述制备方法得到的高水氧阻隔率量子点膜作为设置在液晶显示器内导光板上量子点膜的用途。