[发明专利]传感器、掩模板叉、机械手、掩模板传输系统及光刻机

说明书

本发明实施例公开了一种传感器、掩模板叉、机械手、掩模板传输系统及光刻机。该传感器包括稳压模块、光电感应模块、信号放大模块以及信号检测模块；稳压模块与光电感应模块和信号放大模块电连接，用于为光电感应模块和信号放大模块提供恒定电压；光电感应模块用于探测目标物体是否到达设定区域；信号放大模块与光电感应模块电连接，用于对光电感应模块输出的信号进行放大；信号检测模块与稳压模块和信号放大模块均电连接，用于基于信号放大模式输出的信号判断传感器的当前工作状态，当前工作状态包括开路、短路、正常触发以及未触发。本发明实施例提供的传感器可以有效识别当前掩模叉夹持掩膜版与否，进而提高半导体器件的制作良率。

技术领域

本发明实施例涉及半导体制作技术，尤其涉及一种传感器、掩模板叉、机械手、掩模板传输系统及光刻机。

背景技术

当前半导体科技发展迅速，其中光学光刻技术扮演了重要的角色。光学光刻技术在半导体的应用上，是将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的掩模，利用曝光原理，使光源通过掩模投影至硅晶片上，可曝光显示特定的图案。

在曝光设备中，掩模版或硅片等物料传输系统是非常重要的分系统。其中，掩模版传输系统主要用于将指定的掩模版从掩模版存储机构中取出，平稳、安全并且无污染地运输到掩模台分系统或曝光分系统中，并在此过程中进行掩模版标记的对准，为曝光做准备。整个过程满足高速、高精度和高可靠性的要求。

光刻设备已经能够在晶片上形成越来越小的图形，而在光刻设备中，掩模版传输系统则是对光刻过程中掩模版操作的重要装置。在掩模版传输系统中，机械手是夹持、固定和承载掩模版的重要结构。目前，掩模版在传输的过程中通常是采用真空吸附的方法固定在传输掩模版的机械手上。通常情况下，机械手包括一个叉形的掩模板叉，主要通过吸附结构来吸附掩模版，并且在吸附结构与掩模版接触的中间设置有一个或多个真空吸附的窗口。

在曝光设备中，这种真空吸附的方法往往产生真空气路堵塞或漏气的现象，比如真空吸附窗口的破损导致真空气路堵塞，掩模版或掩模板叉上存在的颗粒物使真空吸附处不能紧密地贴合导致漏气等等。这些都会导致真空吸附力下降，使掩模版不能得到牢固并且可靠的固定，使设备的可靠性降低。另外，若出现上述吸附不牢的状况，使得掩模板叉中可能没有夹持有掩模版，但是系统是无法识别这样的状况的，所以可能造成一些不必要的误判或其他弊端，进而造成半导体器件制作良率下降。

发明内容

本发明提供一种传感器、掩模板叉、机械手、掩模板传输系统及光刻机，以实现有效识别当前掩模叉夹持掩膜版与否，进而提高半导体器件的制作良率。

第一方面，本发明实施例提供了一种传感器，该传感器包括稳压模块、光电感应模块、信号放大模块以及信号检测模块；

所述稳压模块与所述光电感应模块和所述信号放大模块电连接，用于为所述光电感应模块和所述信号放大模块提供恒定电压；

所述光电感应模块用于探测目标物体是否到达设定区域；

所述信号放大模块与所述光电感应模块电连接，用于对所述光电感应模块输出的信号进行放大；

所述信号检测模块与所述稳压模块和所述信号放大模块均电连接，用于基于所述信号放大模式输出的信号判断所述传感器的当前工作状态，所述当前工作状态包括开路、短路、正常触发以及未触发。

第二方面，本发明实施例还提供了一种掩模板叉，该掩模板叉包括本发明实施例提供的任意一种传感器。

第三方面，本发明实施例还提供了一种机械手，该机械手包括本发明实施例提供的任意一种掩模板叉。

第三方面，本发明实施例还提供了一种掩模板传输系统，该掩模板传输系统包括本发明实施例提供的任意一种机械手。

第四方面，本发明实施例还提供了一种光刻机，该光刻机包括本发明实施例提供的任意一种掩模板传输系统。