[发明专利]一种具有ZrN层的低辐射玻璃有效
| 申请号： | 201810701264.8 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN108793768B | 公开（公告）日： | 2020-07-21 |
| 发明（设计）人： | 黄倩 | 申请（专利权）人： | 广东新华强玻璃科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 杭州知管通专利代理事务所(普通合伙) 33288 | 代理人： | 黄华 |
| 地址： | 528000 广东省佛山市南海区丹灶镇南海国家生态工业*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 zrn 辐射 玻璃 | ||
1.一种具有ZrN层的低辐射玻璃，其特征在于：所述低辐射玻璃是由如下方法制备的：
在玻璃基底上，沉积底层电介质层；
在所述底层电介质层上，沉积第一隔离层；
在所述第一隔离层上，沉积第一ZrN层；
在所述第一ZrN层上，沉积第一Ag层；
在所述第一Ag层上，沉积第一Cu层；
在所述第一Cu层上，沉积第一Pd层；
在所述第一Pd层上，沉积第二ZrN层；
在所述第二ZrN层上，沉积第二隔离层；
在所述第二隔离层上，沉积顶层保护层；
所述底层电介质层是二氧化钛层，所述底层电介质层的厚度为30-40nm，所述第一隔离层是金属钛层，所述第一隔离层的厚度为20-30nm。
2.如权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于：所述第二隔离层是NiCr层，所述第二隔离层的厚度为30-40nm，所述顶层保护层是Si3N4层，所述顶层保护层的厚度为20-30nm。
3.如权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于：在所述第一隔离层上沉积第一ZrN层具体为：采用射频溅射方法，靶材为金属锆，氮气流量为50-60sccm，溅射功率为700-900W，基片温度为200-300℃，所述第一ZrN层厚度为8-12nm。
4.如权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于：在所述第一ZrN层上沉积第一Ag层具体为：采用射频溅射方法，靶材为金属Ag，氮气流量为10-20sccm，溅射功率为200-300W，基片温度为300-350℃，所述第一Ag层厚度为4-8nm。
5.如权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于：在所述第一Ag层上沉积第一Cu层具体为：采用射频溅射方法，靶材为金属Cu，氮气流量为10-20sccm，溅射功率为300-400W，基片温度为150-200℃，所述第一Cu层厚度为4-6nm。
6.如权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于：在所述第一Cu层上沉积第一Pd层具体为：采用射频溅射方法，靶材为金属Pd，氮气流量为10-20sccm，溅射功率为300-400W，基片温度为200-250℃，所述第一Pd层厚度为2-4nm。
7.如权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于：在所述第一Pd层上沉积第二ZrN层具体为：采用射频溅射方法，靶材为金属Zr，氮气流量为80-90sccm，溅射功率为900-1000W，基片温度为300-350℃，所述第二ZrN层厚度为4-6nm。
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