[发明专利]高性能磨料抛光液

说明书

一种高性能磨料抛光液，至少包括IIIA族氧化物、过渡金属氧化物、季铵盐、有机硅化合物、水。

技术领域

本发明涉及抛光技术，特别涉及一种高性能磨料抛光液。

背景技术

化学机械抛光是近十几年发展的一项表面平坦化技术，借助超微粒子的研磨作用和浆料的化学腐蚀作用在被研磨的工件表面形成光洁平坦表面，是机械磨削和化学腐蚀的组合技术。如今，化学机械抛光已经从半导体工业中的层间介质、绝缘体、多晶硅等拓展到薄膜存储磁盘、微电子机械系统、陶瓷、磁头、光学玻璃等表面加工领域。

光学玻璃主要用来制成各种曲率的球面或非球面透射和反射镜，以及各种复杂的棱镜，对光进行透射、折射和反射。在化学机械抛光中，光学玻璃由于水解作用会在表面生成硅酸水化层覆盖在表面。在随后的抛光中，在机械摩擦力作用下由浆料中的研磨离子带走，同时暴露出新的表面。因此工件表面材料的去除实际上是软质层的形成与去除的一个胶体进行的动态平衡过程。由于玻璃成分的差异，可能导致水化层成分与性质的显著差异。所以，光学玻璃的水解机理必将对材料去除起到重要的作用。在一些不合适的抛光材料使用的时候，玻璃表面的光泽会消失，变得灰暗，在玻璃表面甚至出现油脂状薄膜，斑点或者其它受到侵蚀的痕迹。在玻璃的表面也可能出现雾状膜、聚滴薄膜或白斑等不良的现象。

发明内容

为了解决现有技术问题，本发明提供一种高性能磨料抛光液，至少包括IIIA族氧化物、过渡金属氧化物、季铵盐、有机硅化合物、水。

在一些实施方式中，所述IIIA族氧化物为IIIA族金属氧化物。

在一些实施方式中，所述过渡金属氧化物为IVB族金属氧化物。

在一些实施方式中，所述季铵盐为金属季铵盐或氢氧化季铵碱。

在一些实施方式中，所述IIIA族氧化物的粒径为0.3-0.8μm。

在一些实施方式中，所述过渡金属氧化物的粒径为1-3μm。

在一些实施方式中，所述高性能磨料抛光液还包括含有丁内酰胺的聚合物。

在一些实施方式中，所述含有丁内酰胺的聚合物的平均分子量为10000-33000。

在一些实施方式中，所述高性能磨料抛光液还包括缓蚀剂。

在一些实施方式中，所述缓蚀剂选自亚硝酸盐、硝酸盐、铬酸盐、重铬酸盐、磷酸盐、多磷酸盐、硅酸盐、钼酸盐、含砷化合物、胺类、醛类、炔醇类、有机磷化合物、有机硫化合物、磺酸、磺酸盐、羧酸、羧酸盐、杂环化合物中的至少一种。

本发明所提供的高性能磨料抛光液，能够应用于玻璃抛光、蓝宝石抛光、陶瓷抛光等精密领域。

附图说明

图1为实施例2烘干后的红外图；

图2为实施例2的核磁氢谱图，氘代溶剂为氘代水；

图3为实施例2的LD图。

具体实施方式

为了下面的详细描述的目的，应当理解，本发明可采用各种替代的变化和步骤顺序，除非明确规定相反。此外，除了在任何操作实例中，或者以其他方式指出的情况下，表示例如说明书和权利要求中使用的成分的量的所有数字应被理解为在所有情况下被术语“约”修饰。因此，除非相反指出，否则在以下说明书和所附权利要求中阐述的数值参数是根据本发明所要获得的期望性能而变化的近似值。至少并不是试图将等同原则的适用限制在权利要求的范围内，每个数值参数至少应该根据报告的有效数字的个数并通过应用普通舍入技术来解释。

尽管阐述本发明的广泛范围的数值范围和参数是近似值，但是具体实例中列出的数值尽可能精确地报告。然而，任何数值固有地包含由其各自测试测量中发现的标准偏差必然产生的某些误差。