[发明专利]光学测定装置以及光学测定方法有效

专利信息
申请号: 201810708073.4 申请日: 2018-07-02
公开(公告)号: CN109211741B 公开(公告)日: 2022-06-17
发明(设计)人: 泉谷悠介;若山育央 申请(专利权)人: 大塚电子株式会社
主分类号: G01N15/02 分类号: G01N15/02
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 吕琳;朴秀玉
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 测定 装置 以及 方法
【说明书】:

本发明的光学测定装置包含:主体基座、可移动地结合于所述主体基座的光学基座、固定于所述光学基座的测定光学系统、以及使所述光学基座相对于所述主体基座进行相对移动的光学基座移动机构。所述光学基座移动机构使所述光学基座相对于所述主体基座在内部测定位置与外部测定位置之间进行相对移动。内部测定位置是指所述测定光学系统的测定对象位置位于设定在所述主体基座内的内部测定对象位置的位置。外部测定位置是指所述测定光学系统的测定对象位置位于设定在所述主体基座外的外部测定对象位置的位置。

技术领域

本发明涉及一种用于执行对测定对象的光学测定的装置以及方法。

背景技术

日本专利第3533502号公报公开了一种自动化学分析装置,其具备将多个测光单元排列成环状进行保持的转台(turn table)、靠近转台地配置的光源单元、以及靠近相同转台地配置的检测单元。光源单元以及检测单元构成分光测定部。分光测定部对转台所保持的多个测光单元中的一个测光单元执行分光测定。通过转台旋转来更换测定对象的测光单元。由此,能够连续地执行对多个测光单元的测定。

发明内容

日本专利第3533502号公报的装置内置有转台,因此,大型且装置设置面积较大、零件个数较多、构成复杂、制造成本高。与其对应地,装置的价格变得较高,因此,不需要对许多测定对象进行连续测定的用户可能会认为不具备转台的构成的装置更理想。

因而,装置制造商(maker)要根据转台的有无来准备单独设计的至少两个型号,并分别进行制造以及售卖。

但是,对于装置制造商而言,因具备这样的多个型号,除了设计成本会增加,而且还必须准备各自型号的专用零件。另一方面,对于用户而言,在购买了无转台的型号之后,在产生对许多测定对象进行连续测定的需求时,必须重新购买带转台的型号,经济上的负担会增大。

同样的课题不仅会在有无转台的情况下产生,在准备与测定对象对应的保持零件等的情况下也会产生。

本发明的一实施方式提供能够应对用户的各种需求的光学测定装置以及光学测定方法。

本发明的一实施方式提供一种光学测定装置,其包含:主体基座;光学基座,能够移动地结合于所述主体基座;测定光学系统,固定于所述光学基座;以及光学基座移动机构,使所述光学基座相对于所述主体基座进行相对移动。所述光学基座移动机构使所述光学基座相对于所述主体基座在内部测定位置与外部测定位置之间相对移动。内部测定位置是指基于所述测定光学系统的测定对象位置成为设定在所述主体基座内(更具体而言为光学测定装置的壳体内)的内部测定对象位置的位置。外部测定位置是指基于所述测定光学系统的测定对象位置成为设定在所述主体基座外(更具体而言为光学测定装置的壳体外)的外部测定对象位置的位置。

所述测定光学系统也可以构成为:对测定对象位置照射光且检测在所述测定对象位置散射的光。更具体而言,所述测定光学系统也可以包含:光源单元,产生照射至测定对象位置的光;光投射透镜,使所述光源单元的光在测定对象位置聚光;以及检测透镜,供从所述测定对象位置散射的散射光射入。在该情况下,光投射透镜的焦点位置或者其附近为测定对象位置。

光学基座相对于主体基座的移动包含平行移动以及旋转移动中的一方或者两方。平行移动的方向包含水平方向分量以及垂直方向分量中的一方或者两方。旋转移动可以是绕沿着包含水平方向分量以及垂直方向分量中的一方或者两方的方向的旋转轴线的旋转。

在本发明的一实施方式中,还包含被所述主体基座支承并配置有用于保持试样的试样保持器的试样载置台。所述内部测定对象位置与所述试样保持器所保持的试样的位置对应。

所述试样保持器也可以构成为保持容纳有试样的试样单元(cell)。

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