[发明专利]一种掩模传输装置和方法有效
申请号: | 201810713530.9 | 申请日: | 2018-06-29 |
公开(公告)号: | CN110658687B | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 郑教增;郑锋标 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 传输 装置 方法 | ||
本发明公开了一种掩模传输装置及方法,所述装置包括:相对放置的外部版库单元及内部版库单元,所述外部版库单元及内部版库单元之间设置有取放版机械手和交换版机械手,且所述取放版机械手和交换版机械手相对放置,所述外部版库单元、内部版库单元、取放版机械手和交换版机械手呈矩形排布结构。采用了系统的安全性措施,确保运动部件,掩模版的安全;采用特殊的机械手结构,提高了机械手和掩模版的可靠性和安全性;掩模传输系统能够检测掩模版的规格,提高了对掩模处理的能力;采用特殊的机械手与交换版手正面交接方式,提高了交接精度;采用了自补偿的第二机械手,提高了掩模传输精度,降低了装调要求。
技术领域
本发明涉及掩模传输技术领域,特别是涉及一种掩模传输装置和方法。
背景技术
光刻机是集成电路芯片制造中重要的加工设备之一,用于将芯片的设计图形,曝光从掩模版转印于硅片表面的光刻胶上.在完成一个芯片制造过程中,需要多块不同的掩模版,将不同的图形转印到硅片上。随着集成电路芯片的关键尺寸越来越小,掩模版的制造成本也越来越高,因此在使用掩模版过程中,必须确保掩模版的清洁,安全。随着光刻机设备成本的不断增加,对于光刻机的产率要求也越来越高。对于更换掩模版的时间要求越来越短。
光刻机一般包含了照明系统,曝光系统,工件台系统和掩模台系统,以及实现上载掩模版和硅片的掩模传输系统和硅片传输系统。掩模传输将带有芯片设计图形的掩模版传输到掩模台上,同时硅片传输将凃有光刻胶的硅片从硅片存储单元中传输到工件台上,照明系统将曝光的光照射到掩模台上的掩模版,从曝光系统的投影物镜中穿过,在工件台上的硅片上表面上成像,硅片表面的光刻胶由于掩模上的芯片图形的投影,某些区域就发生光化学反应,从而实现在硅片上表面的光刻胶上实现掩模的芯片图形。
掩模传输系统主要实现掩模版的对外接口,掩模版的存储,掩模版的传输等功能;掩模版在掩模传输中是否得到安全、清洁的存储,安全、快速、精确的传输是光刻机对掩模传输系统的基本要求。
由于掩模版的昂贵成本和需要高的上版精度,这对掩模传输有着高可靠性和高安全性的要求。现有技术记载了一种光刻机掩模传输系统。所述的掩模传输系统中有两个机械手实现掩模版从掩模存储单元到掩模台的掩模传输。所述的第一个机械手实现掩模版在掩模版存储单元和所述的第二个机械手之间传输,所述的第一个机械手还可以实现掩模版在版库存储单元到内部版库,颗粒度检测单元之间的传输。第二个机械手实现所述第一个机械手和掩模台之间额掩模传输。在第一个机械手与第二个机械手交接的时候和第二个机械手与掩模台交接的时候,都有预对准测量系统检测掩模版的位置。但该方案存在几个缺陷:
1、掩模传输过程中存在着安全隐患;
2、第一机械手在与第二机械手交接时,会有较大精度损失;
3、掩模规格检测方式无法检测出足够的掩模规格特征;
4、如果第一个机械手的掩模传输精度不足,则到第二个机械手时,无法进行精度校正;
5、整个系统的装调要求很高,需要耗费大量成本。
因此有必要设计一种更加适用的掩模传输装置和方法,以解决上述问题。
发明内容
针对现有技术存在的问题,本发明提供一种既能提高掩模传输精度,又不损失掩模传输效率,还能确保掩模版安全的掩模传输装置和方法。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
本发明提供一种掩模传输装置,包括:相对放置的外部版库单元及内部版库单元,所述外部版库单元及内部版库单元之间设置有取放版机械手和交换版机械手,且所述取放版机械手和交换版机械手相对放置,所述外部版库单元、内部版库单元、取放版机械手和交换版机械手呈矩形排布;
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