[发明专利]一种碱性光刻胶剥离液在审
| 申请号： | 201810717379.6 | 申请日： | 2018-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN108803263A | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 刘江华;孙翠侠;贾亚军;潘阳 | 申请（专利权）人： | 昆山欣谷微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人： | 李静 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻胶剥离液 去除 光刻胶残留物 极性有机溶剂 腐蚀 表面活性剂 腐蚀抑制剂 高温退火 金属化层 晶圆背部 晶圆背面 晶圆表面 色差现象 有机醇胺 残余物 晶圆基 白斑 晶圆 | ||
1.一种碱性光刻胶剥离液，包括有机醇胺、极性有机溶剂、腐蚀抑制剂、表面活性剂，所述有机醇胺为单乙醇胺、N- 二甲基乙醇胺、N-二乙基乙醇胺、异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、3-丙醇胺、2-氨基乙醇胺、乙基二乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺、二甘醇胺中的一种或多种，所述极性有机溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一种或多种，所述腐蚀抑制剂为含有氮、氧、硫等原子的有机腐蚀抑制剂，其中较佳的为多元醇类，脲类、酚类，唑类和有机羧酸类中的一种或几种，所述表面活性剂聚醚非离子表面活性剂，如NP-10、AEO9、OP-10、NP-8.6、JFC、 Genapol EP2584、Genapol EP2454、Genapol X080、Rhodoclean EFC&MSC、Pluronic PE6200、PluronicPE6400、Pluronic PE6800。
2.根据权利要求1所述一种碱性光刻胶剥离液, 其特征在于所述有机醇胺为单乙醇胺、N-甲基乙醇胺和二甘醇胺中的一种或其混合物。
3.根据权利要求1所述一种碱性光刻胶剥离液, 其特征在于所述有机醇胺占溶液的1-75%。
4.根据权利要求1所述一种碱性光刻胶剥离液, 其特征在于所述极性有机溶剂中的亚砜为二甲基亚砜和甲乙基亚砜中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述一种碱性光刻胶剥离液, 其特征在于所述极性有机溶剂中的砜较佳的为甲基砜、环丁砜中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述一种碱性光刻胶剥离液, 其特征在于所述极性有机溶剂中的咪唑烷酮为2-咪唑烷酮和1,3-二甲基-2-咪唑烷酮中的一种或多种。
7.根据权利要求1所述一种碱性光刻胶剥离液, 其特征在于所述极性有机溶剂中的吡咯烷酮较佳的为N-甲基吡咯烷酮，N-乙基吡咯烷酮和N-环己基吡咯烷酮中的一种或多种。
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