[发明专利]一种用于化学发光反应体系的清洗试剂及其制备方法在审
| 申请号： | 201810717528.9 | 申请日： | 2018-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN110672588A | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 兰玉勇;刘丽;都家琦 | 申请（专利权）人： | 沈阳医陆生物科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/76 | 分类号： | G01N21/76;G01N21/11;B08B3/08 |
| 代理公司： | 21002 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人： | 李颖 |
| 地址： | 110000 辽宁省沈*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 非离子表面活性剂 磷酸二氢钾 磷酸氢二钠 防腐剂 增稠剂 化学发光反应体系 化学发光免疫分析 临床意义 清洗试剂 清洗效果 体外诊断 降解性 无残留 制备 机型 清洗 细菌 检测 替代 损害 应用 | ||
1.一种用于化学发光反应体系的清洗试剂，其特征在于：试剂pH值在6.77-6.83，包括增稠剂、磷酸氢二钠、磷酸二氢钾、防腐剂、非离子表面活性剂；每升试剂中增稠剂的浓度1.5-2.3mol/L，磷酸氢二钠的浓度0.3-0.8mmol/L，磷酸二氢钾的浓度14.5-18.7mmol/L，防腐剂的浓度0.05-0.12g/L，非离子表面活性剂的浓度0.02-0.11mmol/L，余量为水。
2.按权利要求1所述的用于化学发光反应体系的清洗试剂，其特征在于：所述每升试剂中增稠剂的浓度1.5-1.7mmol/L，磷酸氢二钠的浓度0.3-0.5mmol/L，磷酸二氢钾的浓度14.5-16.2mmol/L，防腐剂的浓度0.05-0.08g/L，非离子表面活性剂的浓度0.02-0.06mmol/L，余量为水。
3.按权利要求1或2所述的用于化学发光反应体系的清洗试剂，其特征在于：所述增稠剂为氯化钠、硫酸钠或三聚磷酸钠；所述防腐剂为卡松或Proclin 300；所述非离子表面活性剂为吐温20或吐温80。
4.一种权利要求1所述的用于化学发光反应体系的清洗试剂的制备方法，其特征在于：按上述比例将磷酸氢二钠、磷酸二氢钾、增稠剂、表面活性剂以及卡松于水中，搅拌均匀，而后再经水定容，即得到用于化学发光反应体系的清洗试剂。
5.按权利要求4所述的用于化学发光反应体系的清洗试剂的制备方法，其特征在于：所述依次添加的各物质过程中前一加入物质溶解完全后再添加下一种物料。
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