[发明专利]一种利用氟硅酸钠高效生产四氟化硅和氟化钠的方法有效

专利信息
申请号: 201810724841.5 申请日: 2018-07-04
公开(公告)号: CN110683548B 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 朱庆山;杨海涛;范川林 申请(专利权)人: 中国科学院过程工程研究所
主分类号: C01B33/107 分类号: C01B33/107;C01D3/02
代理公司: 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 代理人: 陈琳琳;张红生
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 硅酸钠 高效 生产 氟化 氟化钠 方法
【说明书】:

本发明公开了一种利用氟硅酸钠高效生产四氟化硅和氟化钠的方法,所述方法包括脱水干燥工序、分解工序、脱硅工序和吸收工序,具体为:氟硅酸钠经过脱水干燥工序得到无水氟硅酸钠;然后进入分解工序,得到四氟化硅和半成品氟化钠;一部分四氟化硅返回分解工序用作流化气体,另一部分作为四氟化硅产品;半成品氟化钠中一部分直接进入脱硅工序,得到氟化钠产品,产生四氟化硅尾气;半成品氟化钠中的另一部分用于吸收脱硅尾气中的四氟化硅,得到半成品氟硅酸钠,返回至分解工序,吸收工序尾气送碱洗塔处理。本方法适用于氟硅酸钠分解制备四氟化硅和氟化钠,具有流程短,能耗低,环境友好,产品附加值高等优点。

技术领域

本发明属于化工、材料领域,特别涉及一种利用氟硅酸钠高效生产四氟化硅和氟化钠的方法。

背景技术

我国是磷肥生产大国,生产中伴随着大量氟硅酸的产出。目前氟硅酸主要用来生产氟硅酸钠。氟硅酸钠产品价值低,产能过剩,经济效益差。因此,通过技术创新,开发利用氟硅酸钠生产高附加值氟盐化工品具有很大的经济效益和社会效益。氟硅酸钠可以通过热分解制备四氟化硅和氟化钠。四氟化硅是电子和半导体行业一种重要的化工原料,主要用于硅化钽、氮化硅的刻蚀剂。四氟化硅还可以用来制备高比表面积的气相白炭黑,也可以用作制备电子级硅烷或多晶硅。氟化钠也是一种重要的氟化盐,是制造其它氟化物的原料,可以用来生产人造冰晶石。

但是氟硅酸钠在固定床分解过程中易发生熔融结块,导致分解不彻底,能耗升高。为解决这个问题,科技人员进行了大量的研究,并形成相应的专利技术。中国专利200910024293.6公开了一种采用回转反应炉热解氟硅酸钠的方法,首先在煅烧炉内低温负压干燥,脱除水分;然后将惰性助剂与干燥后的氟硅酸钠按一定比例混合,在回转反应炉内高温煅烧分解,得到四氟化硅气体,以及惰性助剂和氟化钠的混合物。该工艺虽然可以缓解熔融结块的问题,但是引入的惰性助剂与氟化钠分解困难,不利于氟化钠的利用。而且回转反应炉难以实现大规模连续化生产。中国专利201510302232.7公开了一种高温分解氟硅酸钠制备四氟化硅的方法及装置。首先将氟硅酸钠与分解助剂混合均匀,采用薄层、静态的方式平铺在托盘中,平铺厚度1mm~20mm,将托盘叠放至托盘架上,并置于分解釜体中加热分解。但是该工艺实际仍是固定床分解,存在处理量小,操作复杂,不利于大规模连续化生产,而且需要添加分解助剂,增加成本。中国专利201710216329.5公开了一种用氟硅酸制备氟化氢的循环生产工艺,其中涉及热分解氟硅酸钠制备氟化钠固体和四氟化硅气体,但是并没有给出实际的操作方案。中国专利201110258173.X公开了一种采用回转窑制备四氟化硅的方法,将氟硅酸钠与浓硫酸预反应得到氟硅酸,然后采用回转窑低温热分解,得到氟化氢和四氟化硅的混合气,最后通过冷冻分离,得到纯度较高的四氟化硅气体。该工艺涉及到氟化氢和四氟化硅混合气的分离,增大生产成本。中国专利200980156839.1公开了一种用于流化床反应器中由氟硅酸盐生产四氟化硅的方法和体系。采用氟硅酸盐热分解得到四氟化硅气体、氟硅酸盐与氟盐混合物。一部分四氟化硅再循环到流化床分解反应器用作流化气体。氟硅酸盐与氟盐混合物配加氟硅酸重新生成氟硅酸盐返回干燥分解工序。该工艺中流化床反应器是解决熔融结块的一种有效方法,并采用四氟化硅作为流化气体,没有外来气体引入,避免混合气体分离提纯问题。但是该工艺将分解不完全的氟硅酸钠经过湿法流程重新生成氟硅酸盐,存在流程长,反复干燥,能耗高的缺点。

综上所述,现有的氟硅酸钠热分解制备四氟化硅和氟化钠的技术存在熔融结块、分解不彻底、需要添加助剂、流程长等问题。因此,通过工艺技术创新,开发利用氟硅酸钠高效生产四氟化硅和氟化钠的新工艺具有重要意义。

发明内容

针对上述问题,本发明的目的在于提出了一种利用氟硅酸钠高效生产四氟化硅和氟化钠的方法。本方法适用于氟硅酸钠分解制备四氟化硅和氟化钠,具有流程短,能耗低,环境友好,产品附加值高等优点。

为达到上述目的,本发明采用了如下的技术方案:

一种氟硅酸钠高效生产四氟化硅和氟化钠的方法,所述方法包括脱水干燥工序1、分解工序2、脱硅工序3和吸收工序4四个工序,具体按以下步骤进行:

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