[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置在审
| 申请号： | 201810737984.X | 申请日： | 2018-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN108803115A | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 徐文清;李小龙;张小祥;刘明悬;吴祖谋;郭会斌;宋勇志 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G09F9/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阵列基板 衬底基板 显示装置 减薄区域 有机膜层 信号线 正投影 制作 显示效果 依次层叠 电极层 良率 覆盖 | ||
1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底基板以及依次层叠设在所述衬底基板一侧的信号线、有机膜层和电极层；所述有机膜层上设有减薄区域，所述减薄区域在所述衬底基板的正投影不覆盖所述信号线在所述衬底基板的正投影。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述信号线包括栅线和/或数据线。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述电极层包括像素电极层和/或公共电极层。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括与所述信号线同侧且阵列设在所述衬底基板上的薄膜晶体管；所述减薄区域在所述衬底基板的正投影还不覆盖所述薄膜晶体管在所述衬底基板的正投影。
5.根据权利要求1-4任一项所述的阵列基板，其特征在于，
所述减薄区域的厚度≤所述有机膜层非减薄区域的厚度的1/3；
或，所述减薄区域的厚度≤1μm±0.2μm。
6.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板的一侧形成信号线；
在所述衬底基板未被所述信号线覆盖的部分以及所述信号线背向所述衬底基板的一侧形成有机膜层，并在所述有机膜层上形成减薄区域；所述减薄区域在所述衬底基板的正投影不覆盖所述信号线在所述衬底基板的正投影；
在所述有机膜层背向所述信号线的一侧形成电极层。
7.根据权利要求6所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，在所述有机膜层背向所述信号线的一侧形成电极层之前，所述制作方法还包括：
烘干所述有机膜层，对所述有机膜层进行脱气及固化。
8.根据权利要求6或7所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述衬底基板的一侧形成信号线的步骤，包括：
在所述衬底基板的一侧形成栅线；
或，在所述衬底基板的一侧形成数据线；
或，在所述衬底基板的一侧分别形成栅线和数据线。
9.根据权利要求6或7所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述有机膜层背向所述信号线的一侧形成电极层的步骤，包括：
在所述有机膜层背向所述信号线的一侧形成像素电极层；
或，在所述有机膜层背向所述信号线的一侧形成公共电极层；
或，在所述有机膜层背向所述信号线的一侧分别形成像素电极层和公共电极层。
10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～5任一项所述的阵列基板。
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