[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置

说明书

本发明实施例公开一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，用于提升阵列基板的工艺良率及显示效果。所述阵列基板包括衬底基板以及依次层叠设在所述衬底基板一侧的信号线、有机膜层和电极层；所述有机膜层上设有减薄区域，所述减薄区域在所述衬底基板的正投影不覆盖所述信号线在所述衬底基板的正投影。本发明实施例提供的阵列基板及其制作方法、显示装置用于TFT阵列基板。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

近年来，以薄膜晶体管(Thin Film Transistor，简称为TFT)作为对应像素单元驱动开关的TFT阵列基板，在手机、电脑等显示装置中的应用非常广泛。

请参阅图1，TFT阵列基板一般包括衬底基板1以及设在衬底基板1一侧的信号线2，信号线2与对应不同层设置的像素电极层4或公共电极层5之间通常设置有机膜层3。TFT阵列基板通过该有机膜层3可以有效减少其信号线2与对应像素电极4或公共电极5之间产生的寄生电容，进而能够有效降低TFT阵列基板的负载及功耗。

然而，由于有机膜层3中存在有部分遇热易挥发的有机物质，比如有机溶剂或小分子材料等，容易在阵列基板后续的制作工艺中遇热挥发，使得有机膜层3内部出现气泡；而且，一旦有气泡滞留在阵列基板中，将导致阵列基板制作不良，容易降低阵列基板的工艺良率及显示效果。

发明内容

本发明实施例的目的在于提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，用于提升阵列基板的工艺良率及显示效果。

为了实现上述目的，本发明实施例提供如下技术方案：

本发明实施例的第一方面提供一种阵列基板，包括衬底基板以及依次层叠设在衬底基板一侧的信号线、有机膜层和电极层；有机膜层上设有减薄区域，该减薄区域在衬底基板的正投影不覆盖信号线在衬底基板的正投影。

本发明实施例提供的阵列基板，根据有机膜层与信号线的对应关系，在有机膜层上设置减薄区域，具体为将有机膜层未位于信号线上方的部分，即有机膜层中对应在衬底基板上正投影不覆盖信号线在衬底基板上正投影的部分，也就是有机膜层的非必要区域减薄，以形成该减薄区域，能够有效减小有机膜层非必要区域的厚度，从而减少有机膜层中预热易挥发的有机物质的总存在量；而且，在有机膜层上设置减薄区域，还可以利用厚度较小的减薄区域，使得有机膜层中存在的预热易挥发的有机物质容易在有机膜层的烘干工艺中挥发，以完成有机膜层的脱气处理，从而避免阵列基板在其后续的制作工艺出现气泡滞留的现象。因此，本发明实施例提供的阵列基板在有机膜层上设置减薄区域，能够减少有机膜层中预热易挥发的有机物质的总存在量，并有效改善有机膜层在其烘干工艺中的脱气效果，从而提升阵列基板的工艺良率及显示效果。

基于上述阵列基板的技术方案，本发明实施例的第二方面提供一种阵列基板的制作方法，用于制作上述阵列基板，所述制作方法包括：提供一衬底基板；在衬底基板的一侧形成信号线；在衬底基板未被信号线覆盖的部分以及信号线背向衬底基板的一侧形成有机膜层，并在有机膜层上形成减薄区域，减薄区域在衬底基板的正投影不覆盖信号线在衬底基板的正投影；在有机膜层背向信号线的一侧形成电极层。本发明实施例提供的阵列基板的制作方法所能实现的有益效果，与上述技术方案提供的阵列基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

基于上述阵列基板的技术方案，本发明实施例的第三方面提供一种显示装置，所述显示装置包括上述技术方案所提供的阵列基板。本发明实施例提供的显示装置所能实现的有益效果，与上述技术方案提供的阵列基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为相关阵列基板的结构示意图；