[发明专利]量子点膜及其制备方法

权利要求书

1.一种量子点膜，其特征在于，所述量子点膜包括：

用于发光的量子点层，所述量子点层包括入光面和出光面；

沉积在所述入光面和出光面上的无机镀层，所述无机镀层用于阻隔水氧；

设置在所述无机镀层上的有机保护层。

2.根据权利要求1所述的量子点膜，其特征在于，所述量子点层包括聚合物基质、均匀分散在所述聚合物基质中的量子点和光散射粒子。

3.根据权利要求1所述的量子点膜，其特征在于，所述量子点层和所述无机镀层之间设置有一层平滑涂层，所述平滑涂层的表面粗糙度小于10纳米。

4.根据权利要求1所述的量子点膜，其特征在于，所述无机镀层的厚度在5-400纳米。

5.根据权利要求1所述的量子点膜，其特征在于，所述无机镀层包括氧化铝、氮化铝、氮氧化铝、氧化钛、氮化钛、氮氧化钛、氧化锆、氮化锆、氮氧化锆、氧化硅、碳化硅、氮氧化硅、石墨烯中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的量子点膜，其特征在于，沉积所述无机镀层的方法包括喷射、溅射、蒸镀、真空沉积、等离子增强化学气相沉积或者原子层沉积。

7.根据权利要求1所述的量子点膜，其特征在于，所述有机保护层的厚度在0.5-20微米。

8.根据权利要求1所述的量子点膜，其特征在于，有机保护层包括聚硅树脂、聚环氧树脂、聚氨酯、聚碳酸酯、聚氟树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲醛、聚乙烯、聚偏氯乙烯、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙酸乙烯酯、聚四氟乙烯、聚乙烯醇丁缩醛、聚丙烯、聚酰胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、或聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚丙烯酸酯、聚苯乙烯丙烯腈树脂、聚哥伦比亚树脂、聚CR-39树脂、聚OZ系列树脂、聚TS-26树脂、聚APO树脂、聚MR树脂、聚MH树脂、聚NAS树脂、聚ADC树脂、聚TOPAS树脂、聚ARTON树脂中至少一种。

9.一种量子点膜的制备方法，其特征在于，包括如下过程：步骤S1、制备预定厚度的量子点层；步骤S2、在所述量子点层的入光面和出光面上分别沉积一层无机镀层；S3、在所述无机镀层的表面设置一层有机保护层，得到所述量子点膜。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S1包括如下过程：在惰性气氛下，将量子点胶液涂布在离型膜上，接着固化量子点胶液，剥离离型膜得到量子点层。